[实用新型]承载调节结构和测序系统

权利要求书

1.一种承载调节结构，其特征在于，包括承载模块、一级调节结构和二级调节结构，所述承载模块设置在所述一级调节结构上，所述一级调节结构设置在所述二级调节结构上，所述承载模块用于承载反应器，所述二级调节结构包括第一平面，所述二级调节结构用于调节以使所述第一平面与预设轴线满足第一预设位置关系，所述一级调节结构用于调节以使所述反应器的表面与所述第一平面满足第二预设位置关系，所述第一预设位置关系为倾斜，所述第二预设位置关系为倾斜。

2.根据权利要求1所述的承载调节结构，其特征在于，所述二级调节结构包括第一调节板、第一调节件和支撑件，所述第一调节板设有所述第一平面，所述支撑件设有斜面，所述第一调节板设于所述斜面上，所述第一调节件连接所述支撑件并用于带动所述支撑件移动以调节所述第一调节板在所述斜面上的位置。

3.根据权利要求2所述的承载调节结构，其特征在于，所述二级调节结构包括基板，所述第一调节件和所述支撑件设置在所述基板，所述第一调节板位于所述基板上，所述第一调节件带动所述支撑件时调节所述第一平面相对于所述基板的俯仰角度。

4.根据权利要求3所述的承载调节结构，其特征在于，所述二级调节结构包括连接件、第一配合件和第二配合件，所述连接件连接所述第一调节板和所述基板，所述第一配合件和所述第二配合可相对转动地连接并位于所述第一调节板和所述基板之间，所述第一配合件设在所述第一调节板，所述第二配合件设在所述基板。

5.根据权利要求2所述的承载调节结构，其特征在于，所述二级调节结构包括固定组件，所述固定组件用于固定所述第一调节板。

6.根据权利要求1所述的承载调节结构，其特征在于，所述一级调节结构包括第二调节板和多个第二调节件，所述承载模块包括设在所述第二调节板上的基座，所述多个第二调节件间隔设置并可活动地连接所述基座和所述第二调节板，所述第二调节件用于在活动时调节所述第二调节板以使所述反应器的表面与所述第一平面满足所述第二预设位置关系。

7.根据权利要求6所述的承载调节结构，其特征在于，所述第二调节件的数量是三个，所述三个第二调节件呈等腰三角形分布。

8.根据权利要求6所述的承载调节结构，其特征在于，所述基座上设有用于容置所述反应器的容置槽，所述容置槽设有用于定位所述反应器的定位结构。

9.根据权利要求8所述的承载调节结构，其特征在于，所述定位结构包括三个定位柱，所述三个定位柱分布在所述容置槽相邻接的两侧。

10.一种测序系统，其特征在于，包括权利要求1-9任一项所述的承载调节结构。