[实用新型]一种用于制备管状晶体材料的坩埚有效
| 申请号: | 202020693451.9 | 申请日: | 2020-04-30 |
| 公开(公告)号: | CN212895081U | 公开(公告)日: | 2021-04-06 |
| 发明(设计)人: | 刘建军 | 申请(专利权)人: | 刘建军 |
| 主分类号: | C30B15/10 | 分类号: | C30B15/10;C30B29/06;C30B29/66 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 471000 河南省洛阳市高新*** | 国省代码: | 河南;41 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 制备 管状 晶体 材料 坩埚 | ||
一种用于制备管状晶体材料的坩埚,涉及新材料技术领域,本实用新型通过在坩埚外套(3)的上部设置过渡件(1),然后在坩埚外套的下部设置坩埚内套(9),当处于过渡件上的硅料熔化成熔液后,熔液经下料孔(13)流入坩埚内套,此时,转动的舀料勺(7)将熔液连续的舀入流料槽(16)内,熔液经流料槽流出到管状籽晶上,进而实现管状材料的拉制,本实用新型具有结构简单,生产效率高、成本低、结构设计合理等优点,特别适合大范围的推广和应用。
【技术领域】本实用新型涉及新材料技术领域,具体涉及一种用于制备管状晶体材料的坩埚。
【背景技术】
已知的,新材料产业具有技术高度密集,研究与开发投入高,产品的附加值高,生产与市场的国际性强,以及应用范围广,发展前景好等特点,其研发水平及产业化规模已成为衡量一个国家经济,社会发展,科技进步和国防实力的重要标志,世界各国特别是发达国家都十分重视新材料产业的发展。以靶材为例,基于物理气相沉积原理的溅射镀膜工艺,已广泛应用于液晶显示设备、太阳能电池、太阳能真空管、半导体芯片等技术领域;而旋转型靶材是溅射镀膜工艺中常用的一种镀膜耗材,旋转型靶材一般由管状金属基材和镀膜材料层构成,正常做法是在管状金属基材外表面进行表面清洗或者吹砂完后就直接喷涂镀膜材料层,这种产品存在的问题是由于是喷涂作业,材料的致密度无法达到材料的理论密度。在使用过程中,其使用寿命会降低。同时由于致密度较低,在镀膜过程中需要降低功率使用,进而影响了生产效率;同时由于喷涂工艺的具体要求,其所使用的硅粉的纯度不够,进而导致靶材的整体纯度较低进而影响镀膜质量。
另一种工艺是在一个完整的锭型或棒形材料上用掏料装置掏出一个空心管料,通过磨抛加工后将管料绑定在管状金属基材上,该工艺具有生产效率低,生产成本高及由于掏料工艺限制管料长度较短等缺点,成本限制无法得到大范围的推广和应用,因此,拉制管状晶体的装置就成了本领域技术人员的研究方向,而在整个装置中,坩埚是其中的重要部件之一,那么,如何提供一种用于制备管状晶体材料的坩埚就成了本领域技术人员的长期技术诉求。
【发明内容】
鉴于背景技术中存在的不足,本实用新型公开了一种用于制备管状晶体材料的坩埚,本实用新型通过可以转动的舀料勺将熔液连续的舀入流料槽内,熔液经流料槽流出到管状籽晶上,进而实现管状材料的拉制,本实用新型具有结构简单,生产效率高、成本低等优点。
为了实现上述发明的目的,本实用新型采用如下技术方案:
一种用于制备管状晶体材料的坩埚,包括过渡件、坩埚外套、舀料勺和坩埚内套,在所述坩埚外套内缘面的上部设有过渡件,在所述过渡件的底部设有复数个下料孔,在坩埚外套内缘面的下部设有坩埚内套,在坩埚内套的外缘面与坩埚外套的内缘面之间设有流料槽,在坩埚内套上方坩埚外套的外缘面上设有传动轴,在所述传动轴上设有舀料勺,所述舀料勺处于坩埚内套上熔液槽内形成所述的用于拉制管状材料的坩埚。
所述的用于制备管状晶体材料的坩埚,所述流料槽的宽度为0.01mm~10mm。
所述的用于制备管状晶体材料的坩埚,所述流料槽的替换结构为在坩埚内套的底部或坩埚外套内缘面的底部设有复数个流料孔。
所述的用于制备管状晶体材料的坩埚,所述流料孔的直径为0.01mm~10mm。
所述的用于制备管状晶体材料的坩埚,所述坩埚内套的下面设有凹槽。
所述的用于制备管状晶体材料的坩埚,所述坩埚外套的上端头设有向上延伸的连接环,坩埚外套下端头的外缘面上设有梯形面。
所述的用于制备管状晶体材料的坩埚,所述过渡件上面的中部设有向下凹陷的硅料放置槽,在所述硅料放置槽外围的过渡件上设有向下凹陷的熔液过渡槽,所述熔液过渡槽的侧壁上设有复数个贯通硅料放置槽侧壁的溢料槽,在熔液过渡槽的底部设有复数个下料孔。
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