[实用新型]一种耐潮湿型FIW完全绝缘线

权利要求书

1.一种耐潮湿型FIW完全绝缘线，其特征在于，包括：导体，包覆于所述导体表面的基础绝缘层，包覆于所述基础绝缘层上的耐压绝缘层，包覆于所述耐压绝缘层上的屏蔽绝缘层，包覆于所述屏蔽绝缘层上的耐磨绝缘层；

所述基础绝缘层包括：第一聚氨酯材料层、第一硫酸钙材料层、第一三氧化二铁材料层，所述第一聚氨酯材料层、第一硫酸钙材料层、第一三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成基础绝缘层；

所述耐压绝缘层包括：第二聚氨酯材料层、第二硫酸钙材料层、第二三氧化二铁材料层，所述第二聚氨酯材料层、第二硫酸钙材料层、第二三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐压绝缘层；

所述屏蔽绝缘层包括：第三聚氨酯材料层、第三硫酸钙材料层、屏蔽材料层、第三三氧化二铁材料层，所述第三聚氨酯材料层、第三硫酸钙材料层、屏蔽材料层、第三三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成屏蔽绝缘层；

所述耐磨绝缘层包括：尼龙聚氨酯漆材料层、第四硫酸钙材料层、第四三氧化二铁材料层，所述尼龙聚氨酯漆材料层、第四硫酸钙材料层、第四三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐磨绝缘层。

2.根据权利要求1所述的一种耐潮湿型FIW完全绝缘线，其特征在于，所述基础绝缘层还包括：聚烯烃弹性体层，所述聚烯烃弹性体层、所述第一聚氨酯材料层、第一硫酸钙材料层、第一三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成基础绝缘层。

3.根据权利要求1所述的一种耐潮湿型FIW完全绝缘线，其特征在于，所述耐压绝缘层还包括：氧化锌材料层，所述氧化锌材料层、第二聚氨酯材料层、第二硫酸钙材料层、第二三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐压绝缘层。

4.根据权利要求1所述的一种耐潮湿型FIW完全绝缘线，其特征在于，所述耐磨绝缘层还包括：二氧化硅材料层，所述二氧化硅材料层、所述尼龙聚氨酯漆材料层、第四硫酸钙材料层、第四三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐磨绝缘层。

5.根据权利要求1-4任一项所述的一种耐潮湿型FIW完全绝缘线，其特征在于，所述基础绝缘层还包括：第一乙撑双硬脂酰胺材料层，所述第一乙撑双硬脂酰胺材料层、第一聚氨酯材料层、第一硫酸钙材料层、第一三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成基础绝缘层；

所述耐压绝缘层还包括：第二乙撑双硬脂酰胺材料层，所述第二乙撑双硬脂酰胺材料层、第二聚氨酯材料层、第二硫酸钙材料层、第二三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐压绝缘层；

所述屏蔽绝缘层还包括：第三乙撑双硬脂酰胺材料层，所述第三乙撑双硬脂酰胺材料层、第三聚氨酯材料层、第三硫酸钙材料层、屏蔽材料层、第三三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成屏蔽绝缘层；

所述耐磨绝缘层还包括：第四乙撑双硬脂酰胺材料层，所述第四乙撑双硬脂酰胺材料层、尼龙聚氨酯漆材料层、第四硫酸钙材料层、第四三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐磨绝缘层。

6.根据权利要求1-4任一项所述的一种耐潮湿型FIW完全绝缘线，其特征在于，所述基础绝缘层还包括：第一氯化钙材料层，所述第一氯化钙材料层、第一聚氨酯材料层、第一硫酸钙材料层、第一三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成基础绝缘层；

所述耐压绝缘层还包括：第二氯化钙材料层，所述第二氯化钙材料层、第二聚氨酯材料层、第二硫酸钙材料层、第二三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐压绝缘层；

所述屏蔽绝缘层还包括：第三氯化钙材料层，所述第三氯化钙材料层、第三聚氨酯材料层、第三硫酸钙材料层、屏蔽材料层、第三三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成屏蔽绝缘层；

所述耐磨绝缘层还包括：第四氯化钙材料层，所述第四氯化钙材料层、尼龙聚氨酯漆材料层、第四硫酸钙材料层、第四三氧化二铁材料层相互叠加，和/或，相互拼接以形成耐磨绝缘层。