[实用新型]透明导电膜及触控屏有效
| 申请号: | 202020682492.8 | 申请日: | 2020-04-28 |
| 公开(公告)号: | CN212499249U | 公开(公告)日: | 2021-02-09 |
| 发明(设计)人: | 张玉春;仲树栋 | 申请(专利权)人: | 北京载诚科技有限公司 |
| 主分类号: | B32B9/00 | 分类号: | B32B9/00;B32B9/04;B32B15/04;B32B27/06;B32B27/36;B32B33/00;H01B5/14;G06F3/041 |
| 代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
| 地址: | 100094 北京市海淀*** | 国省代码: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 透明 导电 触控屏 | ||
本实用新型公开了一种透明导电膜和触控屏,其特征在于,所述透明导电膜包括依次层叠设置的柔性基材层、IM层、导电层;所述导电层依次包括设于所述IM层上的第一金属层、第一透明导电材料层、第二金属层和第二透明导电材料层;所述第一金属层和第二金属层的厚度均为10~20nm,所述第一金属层和第二金属层的厚度之和为20~40nm。本申请通过将原来的金属层分两层设置,实现在与现有技术中的金属层总体厚度相同的情况下,提高折射率,进而实现与触控屏中的高折射率的玻璃、OCA胶等的折射率匹配,提高了透光率。
技术领域
本申请涉及光学膜领域,特别是涉及一种透明导电膜及触控屏。
背景技术
透明导电膜是很多产品如触控屏的核心元件。随着智能终端的飞速发展,对透明导电膜的需求日益增加。
提高透明导电膜的导电性是行业内一直追求的目标。近几年,行业内出了低电阻,高导电性的ITO膜,其基本结构如图1所示,包括基材层和依次设于基材层上的IM层、导电层,导电层由透明导电材料层、金属层依次叠加组成。借助隧道击穿的原理,该导电层结构大大提高了导电膜的导电性。其中的透明导电材料层一般为ITO层,由于金属层为低折射率层,而ITO为高折射率层,因此该结构中的透明导电材料层、金属层和透明导电材料层形成了AR减反效果,降低了导电层的反射率,实现了导电层的电阻越低,反射率越低的效果。即目前的透明导电膜,其导电层的反射率可以很小。
我们知道,为了保证导电膜的色差足够小,IM层(INDEX MARGIN,消影层) 与导电层的反射率差值越小越好,但目前的IM层的反射率无法做到更低,因此无法与导电层的反射率匹配,从而色差较大。
另外,上述结构中,金属层的折射率较低,一般在0.8-1.2,使得整体导电膜的折射率较低。在用到触控屏等产品中时,与玻璃、OCA胶约为1.5的折射率相差较大,无法匹配,造成触控屏产品的透光率较差。
因此,如何降低目前导电膜的色差并提高导电膜的折射率,是目前急需解决的问题。
实用新型内容
本申请提供了一种透明导电膜及触控屏,以解决现有技术中低阻透明导电膜色差大,折射率低的问题。
本申请提供了如下方案:
所述透明导电膜包括依次层叠设置的柔性基材层、IM层、导电层;所述导电层依次包括设于所述IM层上的第一金属层、第一透明导电材料层、第二金属层和第二透明导电材料层;
所述第一金属层和第二金属层的厚度均为10~20nm,所述第一金属层和第二金属层的厚度之和为20~40nm。
优选的,所述IM层于波长400~700nm区间的平均反射率为R1,所述导电层于波长400~700nm区间的平均反射率为R2,R1-R2的绝对值△R小于1.5。
优选的,所述导电层的阻值小于100欧姆。
优选的,所述第一金属层和第二金属层为连续膜层。
优选的,所述第一金属层和/或第二金属层的上下两侧还设有至少一层耐候层或抗氧化层。
优选的,所述IM层的折射率为1.6~1.7。
优选的,所述导电层的折射率为1.4-1.5。
优选的,所述透明导电膜还包括设于柔性基材层另一侧的硬化层。
优选的,所述柔性基材层和硬化层之间还设有减反层,所述减反层的折射率为1.3~1.4。
本申请另一方面还提供了一种触控屏,所述触控屏包括如上所述的透明导电膜和依次设于所述透明导电膜上的导电胶和玻璃面板。
根据本申请提供的具体实施例,本申请公开了以下技术效果:
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