[实用新型]转印式滚轮的生产设备

说明书

本实用新型公开一种转印式滚轮的生产设备。转印式滚轮的生产设备包括一曝光装置、一作动机构、以及一显影机构。曝光装置用来伸入一透光圆管内且曝光装置包括一雷射发射模块。雷射发射模块用来朝透光圆管发出通过干涉作用而构成的一图案化光线，以使图案化光线照射在涂布于透光圆管外表面的一负光阻层。作动机构用来使曝光装置与透光圆管相对地移动，以使负光阻层的一部位能够受到图案化光线照射而构成一全像纹路图案层。显影机构用来去除未形成全像纹路图案层的负光阻层的另一部位。借此，取代用于现有的转印式滚轮的制造设备。

技术领域

本实用新型涉及一种生产设备，特别是涉及一种转印式滚轮的生产设备。

背景技术

现有的转印式滚轮在生产时，其生产设备主要通过在转印式滚轮的外表面涂布正光阻剂(Positive Resist)形成一正光阻层，并且从所述转印式滚轮的外部对涂布有正光阻层的滚轮的部分区域照射特定波长的光线(如：紫外光)，使被特定波长的光线照射到的上述部分区域的正光阻层发生光化学反应，从而能被特定的显影液(Developer)溶解，进而生产表面具有特定微结构的转印式滚轮。

然而，由于涂布于所述转印式滚轮的外表面的正光阻层具有一定厚度，现有的转印式滚轮的生产设备在曝光时，所述转印式滚轮的正光阻层靠近曝光光源的一侧会受到足够的曝光能量及时间，相对地，上述正光阻层的另一侧则没有受到足够的曝光能量及时间。或者，上述正光阻层的另一侧也受到足够的曝光能量及时间，但靠近曝光光源的正光阻层的一侧则受到过量的曝光能量及时间。

据此，所述转印式滚轮的结构已经无形中受限于现有转印式滚轮的生产设备。故，如何通过转印式滚轮的生产设备设计的改良，来克服上述的缺陷，已成为该项事业所欲解决的重要课题之一。

实用新型内容

实用新型所要解决的技术问题在于，针对现有技术的不足提供一种转印式滚轮的生产设备。

本实用新型的其中一个实施例公开一种转印式滚轮的生产设备，其包括：一曝光装置，其用来伸入一透光圆管内，并且所述曝光装置包括一雷射发射模块，其能用来朝所述透光圆管发出通过干涉作用而构成的一图案化光线，以使所述图案化光线照射在涂布于所述透光圆管外表面的一负光阻层；一作动机构，其用来使所述曝光装置与所述透光圆管相对地移动，以使所述负光阻层的一部位能够受到所述图案化光线照射而构成一全像纹路图案层；以及一显影机构，其用来去除未形成所述全像纹路图案层的所述负光阻层的另一部位。

优选地，所述作动机构包括有一旋转模块及一线性移动模块，所述旋转模块用来固定所述透光圆管，以使所述透光圆管能沿其中心轴线自转，所述雷射发射模块固定于所述线性移动模块，以使所述雷射发射模块能通过所述线性移动模块而在所述透光圆管内沿着平行所述中心轴线的一方向相对于所述透光圆管移动。

优选地，所述旋转模块用来固定所述透光圆管，以使所述透光圆管能沿其中心轴线自转，所述雷射发射模块呈长条状且相对于所述透光圆管保持不动，并且所述雷射发射模块发出的所述图案化光线所照射到的所述负光阻层的所述部位，其具有一光照长度为所述透光圆管的长度的至少90％。

优选地，所述转印式滚轮的生产设备还包括有一涂布机构，其用来在所述透光圆管的外表面涂布形成有所述负光阻层，并使所述负光阻层的一厚度大所述全像纹路图案层的一最大厚度。

优选地，所述涂布机构能用来使所述负光阻层覆盖所述透光圆管的整个所述外表面，并使所述负光阻层的所述厚度为所述全像纹路图案层的所述最大厚度的1～10倍。

优选地，所述转印式滚轮的生产设备还包括有一承载台，用来供所述透光圆管铅锤地置放；其中，所述曝光装置及所述作动机构对应所述承载台设置。

优选地，所述转印式滚轮的生产设备还包括有一承载台，用来供所述透光圆管水平地置放；其中，所述曝光装置及所述作动机构对应所述承载台设置。