[实用新型]一种纳米硅粉生产用设备清洗装置有效
申请号: | 202020627639.3 | 申请日: | 2020-04-23 |
公开(公告)号: | CN212576973U | 公开(公告)日: | 2021-02-23 |
发明(设计)人: | 邓咏兰 | 申请(专利权)人: | 福州胜澳能源材料科技有限公司 |
主分类号: | B08B3/02 | 分类号: | B08B3/02;B08B13/00;C02F9/02;C01B33/021;B82Y40/00 |
代理公司: | 合肥律众知识产权代理有限公司 34147 | 代理人: | 殷娟 |
地址: | 350000 福建省福州市仓*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 生产 设备 清洗 装置 | ||
本实用新型公开了一种纳米硅粉生产用设备清洗装置,包括清洗机构,所述清洗机构的下端外表面设置有清洗装置外壳底座,所述清洗装置外壳底座的下端外表面设置有滑轮,所述清洗机构的一侧外表面设置有水泵,所述清洗机构的另一侧外表面设置有污水收集装置,所述清洗机构的上端外表面设置有出水管,所述出水管的上端外表面设置有一号盖帽,所述污水收集装置的内表面设置有杂污分离装置,所述杂污分离装置的上端外表面设置有把手与进水管,所述把手位于进水管的一侧,所述进水管的上端外表面设置有二号盖帽。本实用新型所述的一种纳米硅粉生产用设备清洗装置,设有杂污分离装置,便于设备对污杂的分离,使人们使用的效果越来越好。
技术领域
本实用新型涉及清洗装置领域,特别涉及一种纳米硅粉生产用设备清洗装置。
背景技术
设备清洗装置,是通过清洗装置对设备内部进行清洗,放置生产设备内部灰尘较多,造成一定的损害,但随着科技技术的发展,人们对设备清洗装置的功能要求也越来越高了。
现有的一种纳米硅粉生产用设备清洗装置在使用时存在一定的弊端,首先,现有的一种纳米硅粉生产用设备清洗装置,不能对设备进行清洗时,从而对污水进行收集,较为不便,为此,我们提出一种纳米硅粉生产用设备清洗装置。
实用新型内容
本实用新型的主要目的在于提供一种纳米硅粉生产用设备清洗装置,可以有效解决背景技术中的问题。
为实现上述目的,本实用新型采取的技术方案为:
一种纳米硅粉生产用设备清洗装置,包括清洗机构,所述清洗机构的下端外表面设置有清洗装置外壳底座,所述清洗装置外壳底座的下端外表面设置有滑轮,所述清洗机构的一侧外表面设置有水泵,所述清洗机构的另一侧外表面设置有污水收集装置,所述清洗机构的上端外表面设置有出水管,所述出水管的上端外表面设置有一号盖帽,所述污水收集装置的内表面设置有杂污分离装置,所述杂污分离装置的上端外表面设置有把手与进水管,所述把手位于进水管的一侧,所述进水管的上端外表面设置有二号盖帽,所述清洗装置外壳底座的一端外表面设置有抓把,所述杂污分离装置的下端内表面设置有过滤层。
优选的,所述把手与杂污分离装置为固定连接,所述杂污分离装置与污水收集装置为活动连接,所述杂污分离装置与污水收集装置为固定连接,所述把手的外表面设置有一号防滑螺纹。
优选的,所述清洗装置外壳底座与滑轮之间设置有连接杆,所述清洗装置外壳底座的下端外表面通过连接杆与滑轮的上端外表面为固定连接。
优选的,所述水泵与清洗机构为固定连接,所述水泵与清洗装置外壳底座为固定连接。
优选的,所述抓把与清洗装置外壳底座为固定连接,所述抓把的外表面设置有二号防滑螺纹。
优选的,所述清洗机构与污水收集装置的前端外表面均设置有水位刻度尺,水位刻度尺的表面设置有度数。
与现有技术相比,本实用新型具有如下有益效果:该一种纳米硅粉生产用设备清洗装置,通过设置的杂污分离装置,使用时,先将设备通过把手拉取,便可将杂污分离装置抬起,但抬起的同时水位下降流落至污水收集装置的内部,但又因过滤层的存在,可将污水中的杂质进行过滤分离,从而很好的对污水进行处理,整个一种纳米硅粉生产用设备清洗装置结构简单,操作方便,使用的效果相对于传统方式更好。
附图说明
图1为本实用新型一种纳米硅粉生产用设备清洗装置的整体结构示意图。
图2为本实用新型一种纳米硅粉生产用设备清洗装置中污水收集装置的结构示意图。
图中:1、滑轮;2、清洗装置外壳底座;3、水泵;4、清洗机构;5、出水管;6、一号盖帽;7、二号盖帽;8、进水管;9、抓把;10、污水收集装置;11、杂污分离装置;12、把手;13、过滤层。
具体实施方式
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