[实用新型]一种应用于硅方清洗的设备

权利要求书

1.一种应用于硅方清洗的设备，其特征在于，包括机架，所述机架中部设置工作台，所述工作台上安装传送机构，所述传送机构沿工作台的长度方向设置，所述传送机构两侧沿硅方传送方向顺序安装清洗机构、预吹干机构和烘干机构，所述清洗机构、预吹干机构和烘干机构均安装在工作台上并将清洗设备分为清洗区、预吹干区和烘干区。

2.根据权利要求1所述的应用于硅方清洗的设备，其特征在于，所述传送机构为链条传送机构。

3.根据权利要求1所述的应用于硅方清洗的设备，其特征在于，所述清洗机构包括若干管路，每条所述管路呈矩形或正方形设置于硅方的四面，且管路内侧设置若干喷嘴，所述管路入口处连接增压水泵。

4.根据权利要求1所述的应用于硅方清洗的设备，其特征在于，所述预吹干机构为气刀，所述气刀密封连接外部压缩机一。

5.根据权利要求1所述的应用于硅方清洗的设备，其特征在于，所述烘干机构包括烘干机和风刀，所述烘干机和风刀密封连接，所述烘干机用于将外部的压缩机二提供的压缩空气加热至100摄氏度并通过风刀吹到硅方表面。

6.根据权利要求1所述的应用于硅方清洗的设备，其特征在于，所述清洗区、预吹干区和烘干区的进出端均安装挡帘。

7.根据权利要求1所述的应用于硅方清洗的设备，其特征在于，所述传送机构两侧设置导向杆，用于为硅方的移动导向，避免硅方偏移。