[实用新型]一种新型曝光系统有效

专利信息
申请号: 202020609709.2 申请日: 2020-04-22
公开(公告)号: CN212160347U 公开(公告)日: 2020-12-15
发明(设计)人: 李凡月 申请(专利权)人: 拾斛科技(南京)有限公司
主分类号: G03F7/20 分类号: G03F7/20
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 211500 江苏省南京市江北*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 新型 曝光 系统
【权利要求书】:

1.一种新型曝光系统,包括:第一晶圆,第一晶圆吸盘,第二晶圆,第二晶圆吸盘,分布式照明光源,长度测量机构,间隔球,晶圆对准机构,驱动机构,控制器,计算机;其特征在于,

第一晶圆和第二晶圆上分别设有Q个对应的定位标记,Q为≥1的整数;

第一晶圆吸盘,用于固定保持第一晶圆;

第二晶圆吸盘,用于固定保持第二晶圆;

分布式照明光源,包含L个子照明区域,L为≥1的整数;

长度测量机构,包含P个长度计,P为≥3的整数;

间隔球,置于第一晶圆吸盘下表面和第二晶圆吸盘上表面之间,间隔球的数量与长度计的数量对应一致;

晶圆对准机构,配置为检测各晶圆对应定位标记,晶圆对准机构包括用于提供测量的光源;

驱动机构,配置为调整第一晶圆吸盘和第二晶圆吸盘的相对位置,进而调整第一晶圆和第二晶圆的相对位置,进行晶圆对准补偿;

控制器,配置为控制驱动机构的行动,控制分布式照明光源每个子照明区域的发光;

计算机,配置为处理曝光成像、长度测量机构输出数据,计算对准校正数据、长度测量机构校正数据,执行控制器的操作程序。

2.根据权利要求1所述的一种新型曝光系统,其特征在于,第一晶圆、第二晶圆选自光罩、模具、多玻璃板阵列、玻璃晶圆或半导体晶元。

3.根据权利要求1所述的一种新型曝光系统,其特征在于,分布式照明光源设置在第一晶圆吸盘上方。

4.根据权利要求1-3任一项所述的一种新型曝光系统,其特征在于,晶圆对准机构设置在第一晶圆吸盘上方或第二晶圆吸盘下方。

5.根据权利要求4所述的一种新型曝光系统,其特征在于,长度计安置在第一晶圆吸盘上部,长度计中设置有可伸缩的探针,用于测量间距。

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