[实用新型]一种新型曝光系统有效
申请号: | 202020609709.2 | 申请日: | 2020-04-22 |
公开(公告)号: | CN212160347U | 公开(公告)日: | 2020-12-15 |
发明(设计)人: | 李凡月 | 申请(专利权)人: | 拾斛科技(南京)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 211500 江苏省南京市江北*** | 国省代码: | 江苏;32 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 新型 曝光 系统 | ||
1.一种新型曝光系统,包括:第一晶圆,第一晶圆吸盘,第二晶圆,第二晶圆吸盘,分布式照明光源,长度测量机构,间隔球,晶圆对准机构,驱动机构,控制器,计算机;其特征在于,
第一晶圆和第二晶圆上分别设有Q个对应的定位标记,Q为≥1的整数;
第一晶圆吸盘,用于固定保持第一晶圆;
第二晶圆吸盘,用于固定保持第二晶圆;
分布式照明光源,包含L个子照明区域,L为≥1的整数;
长度测量机构,包含P个长度计,P为≥3的整数;
间隔球,置于第一晶圆吸盘下表面和第二晶圆吸盘上表面之间,间隔球的数量与长度计的数量对应一致;
晶圆对准机构,配置为检测各晶圆对应定位标记,晶圆对准机构包括用于提供测量的光源;
驱动机构,配置为调整第一晶圆吸盘和第二晶圆吸盘的相对位置,进而调整第一晶圆和第二晶圆的相对位置,进行晶圆对准补偿;
控制器,配置为控制驱动机构的行动,控制分布式照明光源每个子照明区域的发光;
计算机,配置为处理曝光成像、长度测量机构输出数据,计算对准校正数据、长度测量机构校正数据,执行控制器的操作程序。
2.根据权利要求1所述的一种新型曝光系统,其特征在于,第一晶圆、第二晶圆选自光罩、模具、多玻璃板阵列、玻璃晶圆或半导体晶元。
3.根据权利要求1所述的一种新型曝光系统,其特征在于,分布式照明光源设置在第一晶圆吸盘上方。
4.根据权利要求1-3任一项所述的一种新型曝光系统,其特征在于,晶圆对准机构设置在第一晶圆吸盘上方或第二晶圆吸盘下方。
5.根据权利要求4所述的一种新型曝光系统,其特征在于,长度计安置在第一晶圆吸盘上部,长度计中设置有可伸缩的探针,用于测量间距。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于拾斛科技(南京)有限公司,未经拾斛科技(南京)有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020609709.2/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种隔音降噪板
- 下一篇:一种使用便捷的装修材料取用装置