[实用新型]一种低透过率滤光片及包含该滤光片的光学指纹识别模组

权利要求书

1.一种低透过率滤光片，包括一基板，其特征在于，在基板上依次排布有包括高折射率膜和低折射率膜交替搭配的第一膜堆、金属膜与介电质膜交替搭配的第二膜堆、高折射率膜和低折射率膜交替搭配的第三膜堆；每一膜堆的最外层为二氧化硅膜；所述滤光片的每一层膜厚度为5-300nm。

2.根据权利要求1所述的低透过率滤光片，其特征在于，所述滤光片的膜系结构为Sub│ (H₁L₁H₂L₂…H_xL_xS) (M₁N₁M₂N₂…M_yN_yS) (H₁L₁H₂L₂…H_zL_zS) │ Air，其中，Sub为基板，Air为空气，H代表高折射率膜，L代表低折射率膜，M代表金属膜，N代表介电质膜，S代表二氧化硅膜，x、y、z为正整数，10≤x≤40，2≤y≤10，10≤z≤40。

3.根据权利要求1所述的低透过率滤光片，其特征在于，所述滤光片的膜系结构为Sub│ (L₁H₁L₂H₂…L_xH_xS) (M₁N₁M₂N₂…M_yN_yS) (L₁H₁L₂H₂…L_zH_zS)│ Air，其中，Sub为基板，Air为空气，H代表高折射率膜，L代表低折射率膜，M代表金属膜，N代表介电质膜，S代表二氧化硅膜，x、y、z为正整数，10≤x≤40，2≤y≤10，10≤z≤40。

4.根据权利要求1所述的低透过率滤光片，其特征在于，所述高折射率膜为二氧化钛、五氧化二钽或者五氧化二铌，所述低折射率膜为二氧化硅。

5.根据权利要求1所述的低透过率滤光片，其特征在于，所述金属膜为银膜，所述介电质膜为硅或者氮化硅。

6.根据权利要求2或3所述的低透过率滤光片，其特征在于，x、y、z为正整数，20≤x≤30，2≤y≤4，20≤z≤30。

7.根据权利要求2或3所述的低透过率滤光片，其特征在于，所述高折射率膜为50-280nm，所述低折射率膜为10-270nm，所述金属膜为8-60nm，所述介电质膜为16-190nm。

8.一种光学指纹识别模组，包括由微型镜头、滤光片、光电二极管、硅基板形成的指纹识别芯片，其特征在于，所述滤光片为如权利要求1-6任一项所述的低透过率滤光片。

9.根据权利要求8所述的光学指纹识别模组，其特征在于，所述低透过率滤光片在入射光入射角度[0°,70°]、波长范围600-1000nm的透过率≤1%。