[实用新型]一种具有清洗功能的石膏旋流器装置

说明书

本实用新型提供了一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，包括一中空回转筒体，所述筒体下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体；所述椎体中部设有旋涡室，所述旋涡室的侧壁上设有用于向所述旋涡室内通入待分离的石膏浆液的进料口；所述椎体上部侧壁上设有用于溢流由所述旋涡室分离的含固率低的石膏浆液的溢流口；所述椎体底部设有用于流出由所述旋涡室分离的含固率高的石膏浆液的底流口；所述椎体下部侧壁上设有切角清洗水入口，所述切角清洗水入口与一清洗水管接通通入清洗水流。本实用新型所述石膏旋流器装置可实现石膏浆液的分离，增加了清洗功能，对旋流器的底流杂质进行冲洗，防止旋流器发生堵塞。

技术领域

本实用新型涉及旋流器设备技术领域，尤其是涉及一种具有清洗功能的石膏旋流器装置。

背景技术

旋流器是一种常用的分流分离设备。旋流器的基本原理是将具有一定密度差的液-液、液-固、液-气等两相或多相混合物在离心力的作用下进行分离。将混合液以一定的压力切向进入旋流器，在圆柱腔内产生高速旋转流场，混合物中密度大的组分在旋流场的作用下同时沿轴向向下运动，沿径向向外运动，在到达锥体段沿器壁向下运动，并由底流口排出，这样就形成了外旋涡流场；密度小的组分向中心轴线方向运动，并在轴线中心形成一向上运动的内涡旋，然后由溢流口排出，这样就达到了两相分离的目的。

旋流器作为离心力与重力复合力场的典型设备，因其结构简单、占地面积小、安装操作方便、运行成本低等优点而被广泛地用于诸多领域。在湿法脱硫产生的脱硫石膏浆液处理过程中，需要利用石膏旋流器对石膏浆液进行脱水，进入旋流器的浆液含固率为15％左右，溢流的浆液中含有未反应的石灰石和硫酸钙晶体(直径一般小于20μm)，含固率为3％-5％，溢流浆液返回吸收塔；底流的含固率约为40％-50％，硫酸钙晶体直接一般大于35μm，底流进行后续脱水和清洗。

但是，目前的石膏旋流器都是只具备分流功能(即脱水功能)，而不具备清洗功能，导致脱硫石膏中含有大量氯离子等杂质，不能达到使用需求，需要进行进一步的处理。未经清洗的对石膏浆液进行脱水，容易造成旋流器堵塞，也为后续的清洗除杂处理增加了难度。因此，亟需开发一种具有清洗功能的石膏旋流器，以解决上述问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，该石膏旋流器装置能够解决上述背景技术中提出的问题。

本实用新型提供一种具有清洗功能的石膏旋流器装置，包括一中空回转筒体，所述筒体下部为一外径从上到下逐渐减小的椎体；所述椎体中部设有旋涡室，所述旋涡室的侧壁上设有用于向所述旋涡室内通入待分离的石膏浆液的进料口；所述椎体上部侧壁上设有用于溢流由所述旋涡室分离的含固率低的石膏浆液的溢流口；所述椎体底部设有用于流出由所述旋涡室分离的含固率高的石膏浆液的底流口；所述椎体下部侧壁上设有清洗水入口，所述清洗水入口与一清洗水管接通以通入清洗水流。

优选地，所述椎体下部侧壁上设有切角清洗水入口。

优选地，所述切角清洗水入口的方向与所述旋流器的回转方向相切。

优选地，所述进料口设于所述旋涡室的顶端侧壁上。

本实用新型具有的有益效果：将石膏浆液分离，溢流产生的含固率低的石膏浆液可以重新作为湿法脱硫反应液使用，同时对旋流器增加水流清洗功能，能有效降低石膏浆液中氯离子含量，对底流中杂质进行冲洗，可以有效防止底流杂质过多造成堵塞，起到清洗旋流器内部旋涡室及底流口的作用。另外，在旋流器下部引入切角水流进行清洗，清洁水直接混入石膏浆液底流，不影响旋流器原有的水力结构，不影响分流，且切角水流能够在节省水资源同时达到高效清洁的目的。

附图说明