[实用新型]一种真空炉的导流结构有效

专利信息
申请号: 202020582284.0 申请日: 2020-04-19
公开(公告)号: CN212770841U 公开(公告)日: 2021-03-23
发明(设计)人: 关占龙 申请(专利权)人: 太仓市华瑞真空炉业有限公司
主分类号: C21D1/667 分类号: C21D1/667;C21D1/773
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 215300 江苏省苏州*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 真空炉 导流 结构
【说明书】:

实用新型公开了一种真空炉的导流结构,包括竖管,所述竖管的下端安装有锥形盘,所述锥形盘的内部设置有四个上下并排的分流盘,所述分流盘包括外盘、中盘和内盘,所述外盘与中盘之间和中盘与内盘之间均设置为分流腔室,所述分流盘的下方设置有锥形导流筒,所述锥形导流筒包括外筒、中筒和内筒,所述外筒与中筒之间和中筒与内筒之间均设置为气体腔室,所述锥形盘的下端与气体腔室对应的位置安装有支管,本实用新型内部的导流盘与锥形导流筒可进行分流,并且进行四次分流,在层层分流下能够保证喷出的气体均匀,本实用新型设置了驱动装置,驱动装置可使得喷出的高压氮气为旋转状态,能够进一步保证氮气的喷出较为均匀。

技术领域

本实用新型涉及真空炉技术领域,具体是一种真空炉的导流结构。

背景技术

目前现有的真空炉包括冷却室和加热室,冷却室和加热室之间通过分室墙隔开,冷却室内部设置有气淬室和油淬室,气淬室通过充气速冷机构提供气源,而油滓室通过油淬油槽进行油淬;

在提供氮气源时一般直接使用喷头喷出,不采用导流结构,导致氮气喷出不均匀,影响冷却。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种真空炉的导流结构,以解决现有技术中在提供氮气源时一般直接使用喷头喷出,不采用导流结构,导致氮气喷出不均匀,影响冷却时为问题。

为实现上述目的,本实用新型提供如下技术方案:一种真空炉的导流结构,包括竖管,所述竖管的下端安装有锥形盘,所述锥形盘的内部设置有四个上下并排的分流盘,所述分流盘包括外盘、中盘和内盘,所述外盘与中盘之间和中盘与内盘之间均设置为分流腔室,所述分流盘的下方设置有锥形导流筒,所述锥形导流筒包括外筒、中筒和内筒,所述外筒与中筒之间和中筒与内筒之间均设置为气体腔室,所述外筒与外盘相固定,所述中筒与中盘相固定,所述内筒与内盘相固定,所述锥形盘的下端与气体腔室对应的位置安装有支管。

优选的,还包括用以驱动竖管的驱动装置,所述驱动装置包括电机和从动齿轮,电机的动力输出端固定有主动转轴,主动转轴上安装有主动齿轮。

优选的,所述从动齿轮固定在竖管的圆周外部,且从动齿轮与主动齿轮啮合。

优选的,所述竖管的上端插入有L形管,且竖管与L形管之间安装有密封轴承。

优选的,所述L形管上安装有密封阀,且L形管的一侧设置有冷却氮气箱,冷却氮气箱与L形管之间连接有高压气泵。

优选的,所述外盘与外筒一体成型,所述中盘与中筒一体成型,所述内盘与内筒一体成型。

与现有技术相比,本实用新型的有益效果是:

1、本实用新型内部的导流盘与锥形导流筒可进行分流,并且进行四次分流,在层层分流下能够保证喷出的气体均匀;

2、本实用新型设置了驱动装置,驱动装置可使得喷出的高压氮气为旋转状态,能够进一步保证氮气的喷出较为均匀。

附图说明

附图用来提供对本实用新型的进一步理解,并且构成说明书的一部分,与本实用新型的实施例一起用于解释本实用新型,并不构成对本实用新型的限制。在附图中:

图1为本实用新型的结构示意图;

图2为本实用新型锥形盘的内部结构示意图;

图3为本实用新型分流盘与锥形导流筒的拆分图;

图4为本实用新型驱动装置的结构示意图。

图中:1、冷却氮气箱;2、支管;3、锥形盘;4、竖管;5、L形管;6、密封阀;7、高压气泵;8、驱动装置;81、电机;82、主动齿轮;83、主动转轴;84、从动齿轮;9、分流盘;91、外盘;92、中盘;93、内盘;10、锥形导流筒;101、外筒;102、中筒;103、内筒;11、气体腔室;12、分流腔室。

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