[实用新型]一种具有恒温控制功能的功率半导体激光器件有效

专利信息
申请号: 202020556607.9 申请日: 2020-04-15
公开(公告)号: CN211508182U 公开(公告)日: 2020-09-15
发明(设计)人: 毛森;毛虎;陆凯凯;焦英豪 申请(专利权)人: 深圳市利拓光电有限公司
主分类号: H01S5/024 分类号: H01S5/024
代理公司: 贵阳中工知识产权代理事务所 52106 代理人: 杨成刚
地址: 518172 广东省深圳市龙岗*** 国省代码: 广东;44
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摘要:
搜索关键词: 一种 具有 恒温 控制 功能 功率 半导体激光器
【权利要求书】:

1.一种具有恒温控制功能的功率半导体激光器件,包括:半导体衬底(6)、第一层二氧化硅层(7)、n型缓冲层(8)、n+欧母接触层(9)、n电极(10)、n型帽层(11)、p型帽层(12)、P电极(13)、p+欧母接触层(14)、集成TEC(200)、半导体激光器有源区(300)、第二层二氧化硅层(16)、第三层二氧化硅层(15)、NTC薄膜电阻(3)、NTC薄膜电阻金属电极(4);

所述集成TEC(200)包括:集成TEC p型半导体(201)、集成TEC n型半导体(202)、集成TEC第一层难熔电极(203)、集成TEC平面型负电极(204)、集成TEC平面型正电极(205)、集成TEC第二层难熔电极(207)、集成TEC第一层绝缘介质隔离层(206)、集成TEC第二层绝缘介质隔离层(208);

所述半导体激光器有源区(300)包括:n型下包层(301),n型下限制层(302),有源层(303),p型下限制层(304),p型上包层(305);

所述半导体衬底(6)的下层为所述第一层二氧化硅层(7),所述半导体衬底(6)的上层为所述n型缓冲层(8),所述n型缓冲层(8)的上层为所述n+欧母接触层(9),所述n+欧母接触层(9)的上层为所述n型帽层(11)、所述n电极(10)、所述第二层二氧化硅层(16),所述n型帽层(11)的上层为所述半导体激光器有源区(300),所述半导体激光器有源区(300)的上层为所述p型帽层(12),所述p型帽层(12)的上层为所述p+欧母接触层(14),所述p+欧母接触层(14)的上层为所述P电极(13);所述P电极(13)的上层大半面积为所述第三层二氧化硅层(15),所述第三层二氧化硅层(15)的上层为所述NTC薄膜电阻(3),所述NTC薄膜电阻(3)两端的上层为所述NTC薄膜电阻金属电极(4);

所述n型下包层(301)的上层为所述n型下限制层(302),所述n型下限制层(302)的上层为所述有源层(303),所述有源层(303)的上层为所述p型下限制层(304),所述p型下限制层(304)的上层为所述p型上包层(305);

所述第一层二氧化硅层(7)的下层为所述集成TEC第一层难熔电极(203)、所述集成TEC第一层绝缘介质隔离层(206),所述集成TEC第一层难熔电极(203)的下层为所述集成TEC p型半导体(201)、所述集成TEC n型半导体(202),所述集成TEC p型半导体(201)与所述集成TEC n型半导体(202)之间被所述集成TEC第一层绝缘介质隔离层(206)隔离,所述集成TEC第二层难熔电极(207)上层为所述TEC p型半导体(201)、所述TEC n型半导体(202)、所述集成TEC第一层绝缘介质隔离层(206),所述集成TEC第二层难熔电极(207)的下层为所述集成TEC平面型负电极(204)、所述集成TEC平面型正电极(205)、所述集成TEC第二层绝缘介质隔离层(208)。

2.如权利要求1所述的一种具有恒温控制功能的功率半导体激光器件,其特征在于:所述集成TEC p型半导体(201)采用p型碲化铋半导体材料。

3.如权利要求2所述的一种具有恒温控制功能的功率半导体激光器件,其特征在于:所述p型碲化铋半导体材料为Bi2Te3-Sb2Te3

4.如权利要求1或2所述的一种具有恒温控制功能的功率半导体激光器件,其特征在于:所述集成TEC p型半导体(201)厚度为0.2mm-0.6mm。

5.如权利要求1所述的一种具有恒温控制功能的功率半导体激光器件,其特征在于:所述集成TEC n型半导体(202)采用n型碲化铋半导体材料。

6.如权利要求5所述的一种具有恒温控制功能的功率半导体激光器件,其特征在于:所述n型碲化铋半导体材料为Bi2Te3-Bi2Se3

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