[实用新型]一种钻石环上的加压装置

说明书

本实用新型公开了一种钻石环上的加压装置，转盘上设置有抛光垫，钻石环设置在抛光垫上，钻石环内依次堆叠有若干砝码，加压装置包括悬挂支架、螺杆和四滑槽，悬挂支架为两个倒U型支架交叉设置而成，两倒U型支架的交叉连接处开设有用于螺杆穿设的通孔，四滑槽对称且可拆卸地设置在钻石环上，两倒U型支架的端部均可上下滑动地设置在四滑槽上，每一滑槽内还设置有用于限位悬挂支架的限位件，若干砝码对应通孔的位置均开设有螺纹孔，螺纹孔与螺杆适配，螺杆还设置有螺帽，螺帽与悬挂支架的上表面抵接。本实用新型技术方案简单实用，可节省使用者成本去改用钻石蝶并安装加压调压装置。

技术领域

本实用新型涉及化学机械抛光设备技术领域，特别涉及一种钻石环上的加压装置。

背景技术

化学机械平坦化/抛光技术和工艺被越来越多地应用于电子芯片生产。它可以从氧化硅、多晶硅、阻扩散层和金属等表面去除形貌并达到极高要求的平坦化，为其后续的光刻步骤作好准备，避免感光层照明期间的深度聚焦问题，它是集成电路制造中最有效的平坦化步骤。此外，这项技术还被广泛应用于其它领域和材料，如第三代半导体基底SiC、光学蓝宝石和玻璃等、密封和装饰用金属合金和陶瓷等。总之，CMP是一种应用非常广泛的表面处理工艺技术。随着越来越高的对工艺表现提高和成本降低的需求，各种研究开发工作在不断地进行，因此小型灵活又低成本的CMP机台在实验室大受欢迎，为CMP材料、设备和工艺进入工业生产提供重要的模拟、预研数据和指导。但相比中大型设备，因受成本和空间限制很多这种小型CMP实验设备采用钻石环来修整抛光垫，而对钻石环没有加压调压装置，这使抛光垫的修整能力和使用寿命受到限制。

实用新型内容

为解决这个问题，本实用新型的提出一种钻石环上的加压装置，钻石环上安装一悬挂支架，悬挂支架上的螺杆旋转时可以挂起一个或多个加重砝码，优化对抛光垫的修整复原效果。

为实现上述目的，本实用新型提出的一种钻石环上的加压装置，用于抛光设备上的钻石环加压，所述抛光设备包括工作台，所述工作台开设有避位孔，所述避位孔内设置有转盘，所述转盘上设置有抛光垫，所述钻石环设置在所述抛光垫上，所述钻石环内依次堆叠有若干砝码，所述加压装置包括悬挂支架、螺杆和四滑槽，所述悬挂支架为两个倒U型支架交叉设置而成，两所述倒U型支架的交叉连接处开设有用于所述螺杆穿设的通孔，四所述滑槽对称且可拆卸地设置在所述钻石环上，两所述倒U型支架的端部均可上下滑动地设置在四所述滑槽上，每一所述滑槽内还设置有用于限位所述悬挂支架的限位件，若干所述砝码对应所述通孔的位置均开设有螺纹孔，所述螺纹孔与所述螺杆适配，所述螺杆还设置有螺帽，所述螺帽与所述悬挂支架的上表面抵接。

优选地，所述限位件为螺栓，每一所述滑槽底面开设有若干与所述螺栓适配的孔柱，所述悬挂支架的端部均开设有若干通孔。

优选地，所述滑槽底部设置有固定轴，所述钻石环上对应地设置有与所述固定轴适配的限位孔，每一所述固定轴对应地插设在一所述限位孔内。

与现有技术相比，本实用新型提出一种钻石环上的加压装置，钻石环上安装一悬挂支架，悬挂支架上的螺杆旋转时可以挂起一个或多个加重砝码，优化对抛光垫的修整复原效果；设计简单，对新的CMP机器只有微小的成本增加，对现有钻石环的改造也非常容易，可节省使用者成本去改用钻石蝶并安装加压调压装置。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例或现有技术中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动的前提下，还可以根据这些附图示出的结构获得其他的附图。

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型中悬挂支架的结构示意图；

图3为本实用新型中滑槽的结构示意图；