[实用新型]高吸收率的纳米级精华的仪器有效

专利信息
申请号: 202020543308.1 申请日: 2020-04-14
公开(公告)号: CN213252540U 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 田桂珍 申请(专利权)人: 田桂珍
主分类号: A61M37/00 分类号: A61M37/00;A61H7/00;H05K5/02;H05K5/06;A61F7/00;A61N2/02;F16F15/067
代理公司: 暂无信息 代理人: 暂无信息
地址: 721599 陕西省宝鸡市*** 国省代码: 陕西;61
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摘要:
搜索关键词: 吸收率 纳米 精华 仪器
【权利要求书】:

1.高吸收率的纳米级精华的仪器,包括握把(1)、拆卸结构(3)、放置结构(7)和防滑结构(8),其特征在于:所述握把(1)的底端活动连接有放置结构(7),所述握把(1)外壁一端的中间位置设置有电源开关(6),所述握把(1)外壁一端的顶端设置有液晶屏(5),所述握把(1)外壁的另一侧均设置有防滑结构(8),所述握把(1)的顶端固定连接有圆盘(2),所述圆盘(2)的外侧壁上设置有拆卸结构(3),所述圆盘(2)外表面上均磁热圈(4)。

2.根据权利要求1所述的高吸收率的纳米级精华的仪器,其特征在于:所述拆卸结构(3)的内部依次安装有第一卡块(301)、密封圈(302)和第一卡槽(303),第一卡块(301)的底端均固定连接有密封圈(302)。

3.根据权利要求2所述的高吸收率的纳米级精华的仪器,其特征在于:所述密封圈(302)的底端均设置有第一卡槽(303),且第一卡槽(303)与第一卡块(301)之间呈卡合结构。

4.根据权利要求1所述的高吸收率的纳米级精华的仪器,其特征在于:所述放置结构(7)的内部依次安装有凹槽(701)、滑槽(702)、滑块(703)、弹簧(704)、连接座(705)、第二卡块(706)、第二卡槽(707)和底座(708),底座(708)的内部设置有凹槽(701),凹槽(701)底端的两侧均设置有滑槽(702),滑槽(702)的一侧均设置有弹簧(704),弹簧(704)顶端的中间位置设置有连接座(705),连接座(705)顶端的两侧均设置有第二卡块(706),第二卡块(706)的顶端均设置有第二卡槽(707)。

5.根据权利要求4所述的高吸收率的纳米级精华的仪器,其特征在于:所述滑槽(702)内部的两端均设置有滑块(703),且滑槽(702)与滑块(703)之间呈滑动结构。

6.根据权利要求1所述的高吸收率的纳米级精华的仪器,其特征在于:所述防滑结构(8)的内部依次安装有粘合层(801)、磨砂层(802)和螺母(803),粘合层(801)的顶端均设置有磨砂层(802),磨砂层(802)顶端的两侧均设置有螺母(803)。

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