[实用新型]光学成像系统有效
| 申请号: | 202020532683.6 | 申请日: | 2020-04-13 |
| 公开(公告)号: | CN212460162U | 公开(公告)日: | 2021-02-02 |
| 发明(设计)人: | 张永明;赖建勋;刘耀维 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18;G02B13/06 |
| 代理公司: | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聂宁乐;胡瑾 |
| 地址: | 中国台湾台中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,从物侧至像侧依序包含:
一第一透镜,具有屈折力;
一第二透镜,具有屈折力,其物侧面为凹面,其像侧面为凹面;
一第三透镜,具有屈折力;
一第四透镜,具有屈折力;
一第五透镜,具有屈折力;
一第六透镜,具有屈折力;
一第七透镜,具有屈折力;以及
一成像面,其中所述光学成像系统具有屈折力的透镜为七枚且至少一个透镜之材质为玻璃,所述光学成像系统于所述成像面上垂直于光轴具有一最大成像高度HOI,所述第一透镜至所述第七透镜中至少一个透镜具有正屈折力,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统之入射瞳直径为HEP,所述第一透镜物侧面至所述成像面于光轴上具有一距离HOS,所述光学成像系统之最大可视角度的一半为HAF,所述第一透镜至所述第七透镜于1/2HEP高度且平行于光轴之厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5、ETP6以及ETP7,前述ETP1至ETP7的总和为SETP,所述第一透镜至所述第七透镜于光轴之厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4、TP5、TP6以及TP7,前述TP1至TP7的总和为STP,其满足下列条件:1≤f/HEP≤10;0degHAF≤100deg;以及0.5≤SETP/STP1。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统系满足下列关系式:0.5≤HOS/HOI≤1.9。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,还包括一光圈,并且于所述光圈至所述成像面于光轴上具有一距离InS,其满足下列公式:0.2≤InS/HOS≤1.1。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第一透镜至所述第七透镜中至少二透镜其个别之至少一个表面具有至少一个反曲点。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴之水平距离为ETL,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第七透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴之水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≤EIN/ETL1。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第一透镜至所述第七透镜于1/2HEP高度且平行于光轴之厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5、ETP6以及ETP7,前述ETP1至ETP6的总和为SETP,其满足下列公式:0.2≤SETP/EIN1。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述光学成像系统包括一滤光元件,所述滤光元件位于所述第七透镜以及所述成像面之间,所述第七透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述滤光元件间平行于光轴之距离为EIR,所述第七透镜像侧面上与光轴之交点至所述滤光元件间平行于光轴之距离为PIR,其满足下列公式:0.1≤EIR/PIR≤1.1。
8.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,在所述成像面上之光轴、0.3HOI以及0.7HOI三处于空间频率55cycles/mm之调制转换对比转移率(MTF数值)分别以MTFE0、MTFE3以及MTFE7表示,其满足下列条件:MTFE0≥0.2;MTFE3≥0.01;以及MTFE7≥0.01。
9.如权利要求1所述的光学成像系统,其中,所述第七透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述成像面间平行于光轴之水平距离为EBL,所述第七透镜像侧面上与光轴之交点至所述成像面平行于光轴之水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≤EBL/BL≤1.5。
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