[实用新型]一种投影幕用抗刮微结构及其投影幕有效

专利信息
申请号: 202020510088.2 申请日: 2020-04-09
公开(公告)号: CN211478862U 公开(公告)日: 2020-09-11
发明(设计)人: 周永南 申请(专利权)人: 江苏慧智新材料科技有限公司
主分类号: G03B21/60 分类号: G03B21/60
代理公司: 上海正策律师事务所 31271 代理人: 吴磊
地址: 222000 江苏省连云港市*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 一种 投影幕 用抗刮 微结构 及其
【权利要求书】:

1.一种投影幕用抗刮微结构,在投影幕的光学微结构阵列层的外向表面上设有按一定规律形成的近似三角棱形微结构;所述近似三角棱形微结构的三角形向上表面为光吸收面,用来透过及吸收环境光;所述近似三角棱形微结构的三角形向下表面为光反射面,用来反射投影光源,形成投影画面;

其特征在于,在所述近似三角棱形微结构的表面设置抗刮微结构,所述抗刮微结构包括光吸收面抗刮微结构,及光反射面抗刮微结构。

2.据权利要求1所述的一种投影幕用抗刮微结构,其特征在于,所述光吸收面抗刮微结构为,所述光学微结构阵列层的向上表面为第一光吸收面,在所述第一光吸收面的顶端设有第一抗刮凹槽,在所述第一抗刮凹槽内填充有吸收面抗刮层,所述吸收面抗刮层的向上表面形成第二光吸收面;所述第一光吸收面与所述第二光吸收面相衔接,形成完整的所述近似三角棱形微结构的光吸收面。

3.据权利要求2所述的一种投影幕用抗刮微结构,其特征在于,所述近似三角棱形微结构的凸出高度为150-300μm;所述第一抗刮凹槽的深度为1um~50um,所述第一抗刮凹槽的长度为5um~50um;

所述第一抗刮凹槽内填充的所述吸收面抗刮层厚度为1um~60um。

4.据权利要求2所述的一种投影幕用抗刮微结构,其特征在于,所述光反射面抗刮微结构为,所述光学微结构阵列层的向下表面为第一光反射面,在所述第一光反射面的顶端设有第二抗刮凹槽,在所述第二抗刮凹槽内填充有反射面抗刮层,所述反射面抗刮层的向下表面形成第二光反射面;所述第一光反射面与所述第二光反射面相衔接,形成完整的所述近似三角棱形微结构的光反射面。

5.据权利要求4所述的一种投影幕用抗刮微结构,其特征在于,所述第二抗刮凹槽的深度为1um~50um,所述第二抗刮凹槽的长度为100um~250um;

所述第二抗刮凹槽内填充的反射面抗刮层厚度为1um~60um。

6.据权利要求4所述的一种投影幕用抗刮微结构,其特征在于,在所述光吸收面与光反射面衔接处设置顶端抗刮微结构;所述顶端抗刮微结构为,在所述三角棱形微结构的三角形向外侧的顶端,即所述光吸收面与光反射面衔接处设置交接圆角。

7.据权利要求6所述的一种投影幕用抗刮微结构,其特征在于,所述交接圆角设置在所述光学微结构阵列层、或所述吸收面抗刮层与所述反射面抗刮层衔接部位的顶端。

8.据权利要求6所述的一种投影幕用抗刮微结构,其特征在于,所述交接圆角的圆弧半径为2um~40um。

9.一种投影幕,其特征在于,包括如权利要求1~8任一项所述的一种投影幕用抗刮微结构;还包括基材层,及光学微结构阵列层;在所述基材层的基础上,涂覆材料并形成光学微结构阵列,再在所述光学微结构阵列上涂覆耐磨涂料形成光吸收面抗刮微结构,及光反射面抗刮微结构。

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