[实用新型]一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴及气嘴总成有效

专利信息
申请号: 202020465472.5 申请日: 2020-04-01
公开(公告)号: CN212120422U 公开(公告)日: 2020-12-11
发明(设计)人: 苏杰;夏凯;韦波 申请(专利权)人: 重庆金樾光电科技有限公司
主分类号: B05B1/06 分类号: B05B1/06;C21D1/09;C23C8/24
代理公司: 重庆为信知识产权代理事务所(普通合伙) 50216 代理人: 蔡冬彦
地址: 400026 重*** 国省代码: 重庆;50
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摘要:
搜索关键词: 一种 用于 激光 氮化 处理 氮气 喷嘴 总成
【权利要求书】:

1.一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,其特征在于:包括气嘴基座和气嘴外套,所述气嘴基座包括基座主体以及设置在基座主体前端部的基座内套,该气嘴基座中具有沿前后方向贯穿基座主体和基座内套的气嘴激光通道,所述气嘴外套外套在基座内套上,该气嘴外套与基座内套之间形成至少一个氮气出气通道,所述基座主体上设置有至少一个用于向对应氮气出气通道输送氮气的氮气进气通道,各个氮气进气通道的出气口分别与对应氮气出气通道的进气口连通,所述气嘴外套前端部的内壁与基座内套前端部的外壁之间形成圆环形的氮气喷出孔,该氮气喷出孔环绕在气嘴激光通道出口的周围,并与各个氮气出气通道的出气口连通。

2.根据权利要求1所述的一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,其特征在于:所述氮气出气通道为一个,且或为锥筒形结构,或为圆筒形结构,该氮气出气通道环绕在气嘴激光通道的周围。

3.根据权利要求2所述的一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,其特征在于:所述氮气出气通道为前小后大的锥筒形结构。

4.根据权利要求2所述的一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,其特征在于:所述氮气出气通道靠近氮气喷出孔的部分为缩颈加压段,该缩颈加压段的间隙宽度朝着靠近氮气喷出孔的方向逐渐减小。

5.根据权利要求1所述的一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,其特征在于:所述基座主体上设置有若干与对应氮气进气通道进气口接通的气管接头,各个气管接头分别通过气管与气源连通。

6.根据权利要求1所述的一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,其特征在于:所述基座主体的前端为基座连接段,该基座连接段的外周面上加工有外螺纹,所述气嘴外套的后端为外套连接段,该外套连接段的内壁上加工有能够与外螺纹螺纹配合的内螺纹。

7.根据权利要求6所述的一种用于激光氮化处理的氮气喷嘴,其特征在于:所述外套连接段与基座连接段通过台阶限位配合。

8.一种气嘴总成,其特征在于:包括能够与激光头连接的气嘴上接头以及权利要求1-7中任一项所述的用于激光氮化处理的氮气喷嘴,所述基座主体的后端部安装在气嘴上接头的前端部上,所述气嘴上接头中具有前后贯穿的接头激光通道,该接头激光通道与气嘴激光通道同轴连通。

9.根据权利要求8所述的一种气嘴总成,其特征在于:所述气嘴上接头的后端部具有用于与激光头连接的法兰盘。

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