[实用新型]气雾生成装置及吸嘴有效
申请号: | 202020430972.5 | 申请日: | 2020-03-28 |
公开(公告)号: | CN212279879U | 公开(公告)日: | 2021-01-05 |
发明(设计)人: | 王剑平;徐中立;李永海 | 申请(专利权)人: | 深圳市合元科技有限公司 |
主分类号: | A24F40/10 | 分类号: | A24F40/10;A24F40/40 |
代理公司: | 暂无信息 | 代理人: | 暂无信息 |
地址: | 518104 广东省深圳市宝安*** | 国省代码: | 广东;44 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 生成 装置 | ||
1.一种气雾生成装置,用于加热气雾形成基质生成气溶胶,并包括沿长度方向相对的近端和远端;其特征在于,还包括:
腔室,被构造成沿长度方向延伸,并被配置为接收气雾形成基质;
吸嘴机构,设置于所述近端,并被构造成沿所述长度方向延伸并围绕形成所述腔室的至少一部分;
加热器,被构造成沿所述长度方向延伸并围绕形成所述腔室的至少一部分,被配置为对气雾形成基质进行加热;
所述吸嘴机构包括进气口和位于近端的吸嘴口,以及沿所述长度方向延伸至少部分围绕所述腔室的至少一部分的空气介质层;
第一气流通道,与所述进气口气流连通,并被构造成位于所述腔室内沿所述近端朝远端的方向延伸;
第二气流通道,由所述腔室靠近远端的端部延伸至吸嘴口,并至少部分沿所述远端朝近端的方向在所述空气介质层内延伸。
2.如权利要求1所述的气雾生成装置,其特征在于,所述吸嘴机构包括:内管和外壳体;其中,
所述内管被构造成沿所述长度方向延伸并围绕形成所述腔室的至少一部分;所述第一气流通道的至少一部分位于所述内管内;
所述外壳体被构造成沿所述长度方向延伸并围绕所述内管;
所述内管与外壳体之间保持有一定间距以形成所述空气介质层。
3.如权利要求2所述的气雾生成装置,其特征在于,所述进气口设置于所述外壳体上;
所述内管上设置有与所述进气口气流连通的气孔,所述第一气流通道通过该气孔与进气口气流连通。
4.如权利要求3所述的气雾生成装置,其特征在于,所述内管被构造成靠近所述近端的一端为封闭,靠近所述远端的一端为敞口。
5.如权利要求3所述的气雾生成装置,其特征在于,所述进气口与气孔之间设置有硅胶塞,该硅胶塞具有中孔;
所述中孔的一端与进气口连通,另一端与所述气孔连通,进而使进气口与气孔气流连通。
6.如权利要求1至5任一项所述的气雾生成装置,其特征在于,所述气雾生成装置被构造成阻止外部空气由所述腔室靠近远端的部位进入腔室内。
7.如权利要求1至5任一项所述的气雾生成装置,其特征在于,所述第一气流通道和第二气流通道在所述吸嘴机构内是彼此隔离的。
8.如权利要求1至5任一项所述的气雾生成装置,其特征在于,
所述气雾生成装置包括沿长度方向延伸的主壳体;
所述加热器被容纳于所述主壳体内;
所述吸嘴机构的至少一部分被接收于所述主壳体内。
9.一种吸嘴,被配置为抽吸气雾形成基质生成的气溶胶,其特征在于,包括沿长度方向相对的近端和远端;以及,
腔室,被构造成沿长度方向延伸,并被配置为接收气雾形成基质的至少一部分;
进气口和设置于所述近端的吸嘴口;
空气介质层,被构造成沿长度方向延伸并围绕所述腔室;
第一气流通道,与所述进气口气流连通,并被构造成由沿所述近端朝远端的方向在所述腔室内延伸;
第二气流通道,由所述远端延伸至吸嘴口,并至少部分沿所述远端朝近端的方向在所述空气介质层内延伸。
10.如权利要求9所述的吸嘴,其特征在于,包括:内管和外壳体;其中,
所述内管被构造成沿所述长度方向延伸并围绕形成所述腔室;所述第一气流通道位于所述内管内;
所述外壳体被构造成沿所述长度方向延伸并围绕所述内管;
所述内管与外壳体之间保持有一定间距以形成所述空气介质层。
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