[实用新型]一种反应釜清洁装置

权利要求书

1.一种反应釜清洁装置，包括盖板(1)，其特征在于，所述盖板(1)下端转动连接有竖直设置的主轴(2)，所述主轴(2)下端固定连接有连接块(3)，所述连接块(3)下端固定连接有刷盘(4)，所述刷盘(4)呈内低外高的弧形设置，所述刷盘(4)下端固定连接有多个刷毛(5)，所述主轴(2)上固定套接有固定环(6)，所述固定环(6)侧壁上固定连接有多个导流板(7)，所述主轴(2)上固定套接有主动轮(8)，所述盖板(1)下端转动连接有两根竖直设置的支轴(9)，所述支轴(9)上对应主动轮(8)的位置固定套接有从动轮(10)，所述从动轮(10)与主动轮(8)啮合连接，两个所述从动轮(10)外侧套设有同一个齿轮环(11)，所述齿轮环(11)内侧壁设有齿牙，所述齿牙与从动轮(10)啮合连接，两根所述支轴(9)上均固定套接有螺纹套(12)，两个所述螺纹套(12)的螺纹旋向相反，所述螺纹套(12)上螺纹套接有螺纹套筒(13)，所述螺纹套筒(13)侧壁上固定连接有连接杆(14)，所述连接杆(14)远离螺纹套筒(13)的侧壁上固定连接有竖直设置的刷板(15)。

2.根据权利要求1所述的一种反应釜清洁装置，其特征在于，所述支轴(9)上对应螺纹套(12)的起止处均固定套接有限位环(16)。

3.根据权利要求1所述的一种反应釜清洁装置，其特征在于，所述螺纹套筒(13)靠近主轴(2)的侧壁上固定连接有支撑杆(17)，所述支撑杆(17)靠近主轴(2)的侧壁上固定连接有半圆柱形的连接环(18)，所述连接环与主轴(2)转动连接。

4.根据权利要求1所述的一种反应釜清洁装置，其特征在于，所述支轴(9)上端与盖板(1)下端滑动连接，所述盖板(1)下端设有与支轴(9)相匹配的环形槽(19)。

5.根据权利要求1所述的一种反应釜清洁装置，其特征在于，所述盖板(1)上端固定安装有电机，所述电机输出端转动贯穿盖板(1)侧壁并与主轴(2)上端同轴固定连接。