[实用新型]绝缘栅双极型晶体管装置及半导体芯片有效

专利信息
申请号: 202020415276.7 申请日: 2020-03-27
公开(公告)号: CN211700252U 公开(公告)日: 2020-10-16
发明(设计)人: 王咏;崔晓;方碧芹 申请(专利权)人: 广东芯聚能半导体有限公司
主分类号: H01L23/367 分类号: H01L23/367;H01L23/492;H01L29/739
代理公司: 广州华进联合专利商标代理有限公司 44224 代理人: 史治法
地址: 511458 广东省广州市南*** 国省代码: 广东;44
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 绝缘 栅双极型 晶体管 装置 半导体 芯片
【说明书】:

实用新型涉及一种绝缘栅双极型晶体管装置及半导体芯片,包括底板、至少两个直接敷铜基板、至少两个绝缘栅双极型晶体管芯片、以及至少两个二极管芯片;直接敷铜基板设置于底板上,且每个直接敷铜基板上至少设置有一个绝缘栅双极型晶体管芯片和一个二极管芯片;二极管芯片相对设置,且至少两个直接敷铜基板上的绝缘栅双极型晶体管芯片和二极管芯片均呈镜像排布;直接敷铜基板上的绝缘栅双极型晶体管芯片和二极管芯片外围设置有绝缘沟槽,以划分出位于绝缘栅双极型晶体管芯片和二极管芯片与绝缘沟槽之间的散热区,且绝缘栅双极型晶体管与二极管芯片之间的散热区宽度大于预设宽度。上述绝缘栅双极型晶体管装置及半导体芯片散热性能好。

技术领域

本实用新型涉及半导体封装技术领域,特别是涉及一种绝缘栅双极型晶体管装置及半导体芯片。

背景技术

在半导体芯片中,高功率的绝缘双极型晶体管(IGBT,Insulated Gate BipolarTransistor)芯片的使用越来越加广泛。由于高功率密度的IGBT芯片如果不能及时散热会导致其所在半导体芯片的温度升高,当半导体芯片持续在高温环境中工作时,其绝缘能力减弱,内部结构材料发生老化,从而影响设备的正常使用,甚至导致设备失灵,因此,在半导体芯片的直接敷铜(DBC,Direct Bonded Copper)基板上布局的有限的空间内设计更高热性能的绝缘栅双极型晶体管装置是非常有必要的。

但是,传统的包含绝缘栅双极型晶体管芯片的绝缘栅双极型晶体管装置由于直接敷铜基板上布局的不合理导致其散热性能较差,从而容易导致绝缘栅双极型晶体管装置所在的半导体芯片在工艺参数或者使用环境不合理时被损坏。

实用新型内容

基于此,有必要针对上述问题,提供一种绝缘栅双极型晶体管装置及半导体芯片。

一种绝缘栅双极型晶体管装置,所述绝缘栅双极型晶体管装置包括底板、至少两个直接敷铜基板、至少两个绝缘栅双极型晶体管芯片、以及至少两个二极管芯片;

所述直接敷铜基板设置于所述底板上,且每个所述直接敷铜基板上至少设置有一个所述绝缘栅双极型晶体管芯片和一个所述二极管芯片;所述至少两个直接敷铜基板上的所述二极管芯片相对设置,且所述至少两个直接敷铜基板上的所述绝缘栅双极型晶体管芯片和所述二极管芯片均呈镜像排布;

其中,所述直接敷铜基板上的绝缘栅双极型晶体管芯片和所述二极管芯片外围设置有绝缘沟槽,以划分出位于所述绝缘栅双极型晶体管芯片和所述二极管芯片与所述绝缘沟槽之间的散热区,所述散热区内暴露所述直接敷铜基板,且所述绝缘栅双极型晶体管与所述二极管芯片之间的所述散热区宽度大于预设宽度。

在其中一个实施例中,所述预设宽度大于等于3mm。

在其中一个实施例中,所述绝缘栅双极型晶体管装置还包括设置于所述至少两个直接敷铜基板之间的连接桥;

对于所述至少两个直接敷铜基板,其中一个所述直接敷铜基板上所述绝缘沟槽与所述直接敷铜基板边缘之间设置有信号端子区域;所述至少两个直接敷铜基板上的信号端子通过所述连接桥连接,并汇总至所述信号端子区域。

在其中一个实施例中,在所述直接敷铜基板上,所述信号端子区域与所述绝缘栅双极型晶体管芯片和所述二极管芯片均相对设置。

在其中一个实施例中,对于所述至少两个直接敷铜基板,在未设置有所述信号端子区域的所述直接敷铜基板上,所述绝缘沟槽与所述直接敷铜基板边缘之间设置有功率端子区域,且所述功率端子与所述信号端子区域相对设置;

所述至少两个直接敷铜基板上的功率端子通过所述连接桥连接,并汇总至所述功率端子区域。

在其中一个实施例中,对于所述至少两个直接敷铜基板,在设置有所述功率端子区域的所述直接敷铜基板上,所述绝缘沟槽与所述直接敷铜基板边缘之间还设置有预留区域;

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于广东芯聚能半导体有限公司,未经广东芯聚能半导体有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020415276.7/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top