[实用新型]一种三氟甲烷的纯化装置有效
| 申请号: | 202020378384.1 | 申请日: | 2020-03-23 |
| 公开(公告)号: | CN211886758U | 公开(公告)日: | 2020-11-10 |
| 发明(设计)人: | 曾熙;张朝春;傅钟盛 | 申请(专利权)人: | 福建德尔科技有限公司 |
| 主分类号: | B01J10/00 | 分类号: | B01J10/00;C07C17/38;C07C17/395;C07C19/08 |
| 代理公司: | 南昌金轩知识产权代理有限公司 36129 | 代理人: | 夏军 |
| 地址: | 364200 福建省龙岩*** | 国省代码: | 福建;35 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 甲烷 纯化 装置 | ||
本实用新型公开了一种三氟甲烷的纯化装置,属于三氟甲烷纯化领域,包括装置本体,装置本体包括排液管、进液管、反应罐、储液罐、进气管以及排气管,反应罐与排液管、进液管、进气管以及排气管连通连接;进液管以及排液管与储液罐连通,进液管位于反应罐的上方,进液管的一部分伸入反应罐,且配置有雾化喷头,进气管位于反应罐的底部,且进气管伸入反应罐的一部分配置有蘑菇喷气装置;三氟甲烷从进气管通过蘑菇喷气装置排出形成若干个气泡,在反应罐的反应液体中反应后离开反应液体,由于进液管的雾化喷头的设置,使得离开液体的三氟甲烷在雾化的反应液体中进行二次充分反应,随即从排气管中排出收集即可,使得三氟甲烷的纯化反应可以充分反应。
技术领域
本实用新型涉八氟环丁烷制备领域,尤其涉及一种三氟甲烷的纯化装置。
背景技术
在现今社会,超大规模集成电路、平板显示器、化合物半导体器件、太阳能电池、光纤等电子工业蓬勃发展,而被广泛应用于薄膜、刻蚀、掺杂、气相沉积、扩散、清洗等工艺的电子气体是上述工业不可缺少的原料。随着电子消费品的升级换代,产品制造尺寸越来越大,产品合格率和缺陷控制越来越严格,整个电子工业对电子气体气体纯度的要求也越来越高。
高纯度三氟甲烷也是重要的电子材料电子材料刻蚀和清洗剂。但用作电子刻蚀剂和清洗剂对三氟甲烷纯度要求很高,需要加大提纯、回收技术的研发力度。氮化镓(GaN)是一种广泛应用于制造蓝光、紫光和白光二极管、紫外线监测器和高功率微波晶体管的材料。
鉴于三氟甲烷生产过程的特点,会产生一些酸性气体如氟化氢、氯化氢等,可用清水、碱性或者还原性溶液吸收去除,现有纯化技术中,采用分子筛吸附工艺气体中的水份及二氧化碳,由于吸附过程中分子筛对工艺气体也有吸附作用,并且过程中伴随着大量的热量,因此,纯化效率较低,工艺气体损失较多。
目前纯化装置中效率低不能同时吸收二氧化碳和水分,所以设计一款能同时吸收三氟甲烷中的二氧化碳以及水分,且使得纯化的反应充分,且可以使得纯化效率提高的纯化装置是关键。
实用新型内容
为了克服现有技术的缺陷,本实用新型所要解决的技术问题在于提出一种三氟甲烷的纯化装置。
为达此目的,本实用新型采用以下技术方案:
本实用新型提供的一种三氟甲烷的纯化装置,包括装置本体,所述装置本体包括排液管、进液管、反应罐、储液罐、进气管以及排气管,所述反应罐与所述排液管、所述进液管、所述进气管以及所述排气管连通连接;所述进液管以及所述排液管与所述储液罐连通,且所述储液罐内储存反应液体;所述反应罐的三分之一至二分之一的空间内装有反应液体;所述进液管位于所述反应罐的上方,所述进液管的一部分伸入所述反应罐,且配置有雾化喷头,所述雾化喷头位于所述反应罐的内部上方;所述进气管位于所述反应罐的底部,且所述进气管伸入所述反应罐的一部分配置有蘑菇喷气装置;三氟甲烷从所述进气管通过所述蘑菇喷气装置排出形成若干个气泡,在所述反应罐的反应液体中反应后离开反应液体,由于所述进液管的所述雾化喷头的设置,使得离开液体的三氟甲烷在雾化的反应液体中进行二次充分反应,随即从所述排气管中排出收集即可,使得三氟甲烷的纯化反应可以充分反应。
本实用新型优选地技术方案在于,所述蘑菇喷气装置上开设有若干个通气通孔,使得进入所述反应罐的三氟甲烷形成气泡,防止所述反应罐内压力过大,且可以防止三氟甲烷反应不充分。
本实用新型优选地技术方案在于,所述反应液体为碱性溶液,使得二氧化碳以及水分都能被吸收。
本实用新型优选地技术方案在于,所述进液管上有若干个分管伸入所述反应罐内,且每个所述分管上都配置有所述雾化喷头,多个所述雾化喷头的设置,使得从所述反应液体排出的三氟甲烷能再次反应,达到纯化的效果。
本实用新型优选地技术方案在于,所述蘑菇喷气装置完全淹没在所述反应罐的所述反应液体内,防止与所述反应液体的第一次反应不充分。
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