[实用新型]一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统有效
申请号: | 202020375749.5 | 申请日: | 2020-03-23 |
公开(公告)号: | CN211182508U | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
发明(设计)人: | 汪渊;谢照川;李伟;尹治强;李超;邓方科 | 申请(专利权)人: | 成都华芯天微科技有限公司 |
主分类号: | H01Q1/28 | 分类号: | H01Q1/28;H01Q1/38;H01Q1/48;H01Q1/50;H01Q3/20;H01Q13/02;H01Q15/14;H01Q19/185 |
代理公司: | 成都华风专利事务所(普通合伙) 51223 | 代理人: | 张巨箭 |
地址: | 610000 四川省成都市中国(四川)自由*** | 国省代码: | 四川;51 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 反射 旋转 剖面 扫描 平面 天线 系统 | ||
1.一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:包括平面反射阵天线模块(12)、副反射面(9)、馈源(8)和电机系统,所述平面反射阵天线模块(12)与所述电机系统连接,所述电机系统与所述副反射面(9)连接,所述馈源(8)安装在所述平面反射阵天线模块(12)的正中心,所述副反射面(9)位于所述馈源(8)正上方。
2.根据权利要求1所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述平面反射阵天线模块(12)包括从上到下依次连接的天线层(5)、控制层(6)和电源层(7),其中,所述控制层(6)与分别与所述馈源(8)和所述电机系统连接;所述电源层(7)通过外接导线与所述控制层(6)连接。
3.根据权利要求2所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述天线层(5)包括平面反射阵面,所述平面反射阵面包括N×N个反射单元;所述控制层(6)包括控制电路和T/R组件,所述控制电路与所述T/R组件连接,所述T/R组件与所述馈源(8)连接,所述控制电路与所述电机系统连接;所述T/R组件包括功率放大器、低噪声放大器和接收发射切换开关,所述功率放大器、低噪声放大器的两端分别连接一个所述接收发射切换开关,所述T/R组件的两端分别通过一个所述接收发射切换开关连接所述馈源(8)和信道。
4.根据权利要求3所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述反射单元包括基板、辐射贴片和金属地,所述辐射贴片贴在所述基板上且环形开口,所述金属地贴在所述基板下。
5.根据权利要求3所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述反射单元口径大小具体为10mm×10mm。
6.根据权利要求1所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述馈源(8)到所述副反射面(9)之间的距离为f,所述f具体为32mm,所述馈源(8)具体为喇叭天线。
7.根据权利要求1所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述副反射面(9)的口径大小d具体为40mm×40mm。
8.根据权利要求1或6所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述馈源(8)到所述副反射面(9)的口径大小d2小于所述副反射面(9)在平面内的等效口径大小d3。
9.根据权利要求1所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述电机系统包括电机A(11)和电机B(10),其中,所述电机A(11)通过转轴与所述电机B(10)连接,所述电机B(10)通过转轴与所述副反射面(9)连接。
10.根据权利要求9所述的一种副反射面旋转的低剖面可扫描平面反射阵天线系统,其特征在于:所述电机A(11)旋转的步进间距为0.1°,最大旋转角度为360°;所述电机B(10)旋转的步进间距为0.1°,最大旋转角度为±α。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于成都华芯天微科技有限公司,未经成都华芯天微科技有限公司许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/202020375749.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:手机壳
- 下一篇:一种用于OLED显示装置的引线布置结构和显示装置