[实用新型]适配装置有效
| 申请号: | 202020372857.7 | 申请日: | 2020-03-20 |
| 公开(公告)号: | CN211836471U | 公开(公告)日: | 2020-11-03 |
| 发明(设计)人: | 张心悦 | 申请(专利权)人: | 张心悦 |
| 主分类号: | B01D21/02 | 分类号: | B01D21/02;B01D21/28 |
| 代理公司: | 珠海智专专利商标代理有限公司 44262 | 代理人: | 张中 |
| 地址: | 518000 广东省深圳市福*** | 国省代码: | 广东;44 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 配装 | ||
适配装置,涉及水净化处理技术领域。适配装置包括顶板及固定在顶板沿水流方向两端的一对垂向的封板。多片相互平行的第一滑泥片与水平面成第一角度地分别固定在顶板或一块封板的内侧,多片相互平行的第二滑泥片与水平面成第二角度地分别固定在顶板或另一块封板的内侧。具有安装方便,可适配多种侧向流沉淀装置的优点。
技术领域
本实用新型涉及水处理池沉淀区专用的部件,具体地说,涉及一种与侧向流沉淀装置配合使用的适配装置。
背景技术
水处理池用于将原水进行净化处理,池中包括絮凝、布水、沉淀、集水等区域,还有排泥管及排泥设备等。在沉淀区安装有沉淀装置,沉淀装置按其其沉淀形式分有多种类型,其中一种是侧向流沉淀装置,公布号为CN102284200A的中国发明专利申请中公开了一种侧向流沉淀装置如图1和图2所示,其中图1是该侧向流沉淀装置的立体结构图,图2是该侧向流沉淀装置在垂直于水流方向的截面图。
参见图1,图1中箭头所示的方向为水流方向。侧向流沉淀装置1包括多组平行的斜板,每组斜板由上斜板11和下斜板12组成,上、下斜板11、12之间设有多个隔板13,每一个隔板13的上端边与上斜板41相交,每一个隔板13的下端边与下斜板12相交,隔板13与下斜板12的相交线17均在不同的水平面上。上、下斜板11、12以及隔板13与水平面存在夹角,隔板13将上、下斜板11、12之间隔出若干截面呈平行四边形的水流通道。其中,下斜板12上且位于每一个隔板13与下斜板12的相交线17的上方开设一个沿水平方向延伸的长条状的排口15。下斜板12与相邻的另一组斜板的上斜板11之间为排泥通道16,如果是靠近池体侧壁的部位,则是下斜板12与侧壁之间为排泥通道16。在排泥通道16沿水流方向的一个端面或两个端面上设置密封端板14。
参见图2,隔板13将上、下斜板11、12之间分隔出多个截面呈半封闭平行四边形的水流通道。水流经过沉淀装置中的水流通道时,悬浮物在自身重力作用下不断沉淀并沿着下斜板12以及隔板13下滑,从排口15进入排泥通道16,然后从排泥通道16进入排泥斗而排出,图2中箭头指示的方向即是沉淀物沉淀走向。由于有密封端板14的存在,排泥通道16内可以认为是没有自进水口向出水口方向水流动的静水区,沉淀物不会受到冲刷、搅动,沉淀物沉淀效果好。
然而,侧向流沉淀装置在实际施工过程中不可避免地存在过流死角,一种情况是从垂直于水流方向的池断面,即过流面看,参见图3,侧向流沉淀装置1先在车间内组装为一个整体,为满足工艺安装要求,组装好的沉淀装置的宽度通常比池的横向尺寸小,应保留一个较小的间隙,但施工中间隙通常较大,即池壁18与池壁19之间的间距较大,向池内安装时,使沉淀装置靠近池壁18,而在沉淀装置1的右端与池壁19之间形成一个较大的空隙区域,也称过流死角2。另一种情形是过流断面上看,侧向流沉淀装置1为并联情况,侧向流沉淀装置与侧向流沉淀装置之间也形成过流死角2。絮凝物通过侧向流沉淀装置1沉淀的过程中,絮凝物会进入该死角区域自由沉降,首先,絮凝物脱离侧向流沉淀装置进入过流死角2时会受到过流通道中水流的影响,水流的流动会影响絮凝物的排出,且水流的惯性会使已进入过流死角2的絮凝物进入过流通道,造成跑矾现象;其次絮凝物在过流死角2中为自由沉降,速度一般为0.3-0.6mm/s,造成上部区域污泥浓度低,下部区域污泥浓度高的情况,易造成堵塞,影响出水水质。
以上只是现有侧向流沉淀装置的一个具体实施形式,其他现有侧向流沉淀装置的工作原理基本完全是一样的,只是在图2示的截面上,结构进行了各式各样的变化。例如,目前还有一种侧向流沉淀装置由多块平行设置的斜板与设置在相邻斜板之间的多块隔板构成,其工作原理与CN102284200A公开的侧向流沉淀装置大同小异,但具有结构更加简单的特点。
因此,减小过流死角区域成为提高沉淀效率迫切需要解决的技术问题。公开号为CN11035723A的中国发明专利申请中公开了一种适配装置,该适配装置包括骨架和多片滑泥叶片,滑泥叶片包括沉淀延伸部和挡板部,从滑泥叶片的横断面看,沉淀延伸部与档板之间形成夹角,多片滑泥叶片的沉淀延伸部之间通过骨架固定连接,多片滑泥叶片的沉淀延伸部之间相互并列设置。
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