[实用新型]一种半自动清洗台

说明书

本实用新型公开了一种半自动清洗台，包括基座、固定安装于基座上方驱动盛料箱转动的缓速电机，所述基座上开设有用于盛放清洗酸碱液的弧形槽，所述基座的上方转动安装有盛料箱，所述盛料箱的内部连通，且盛料箱的上下端均设有开口，且开口处转动安装有可通过清洗酸碱液的箱盖；所述盛料箱为上下部对称形状，且以中部为轴转动，当盛料箱转动时，盛料箱的上下端分别转动到弧形槽内；所述弧形槽的左部设置有下料盘。该清洗台，通过盛料箱带动待清洗的工件转动，实现工件同时进行冲洗和浸泡，清洗效果更好，效率更高。

技术领域

本实用新型属于截流设备技术领域，具体涉及一种半自动清洗台。

背景技术

在半导体制造中，有比较多的零件都需要进行清洗，例如晶圆、基板等，去除去除杂质,去离子,去原子，清洗酸碱液是由HF、硫酸、双氧水、HCL等酸碱液体按一定比例配置，目前使用的清洗台，通过对待清洗件进行浸泡清洗，清洗效果比较差，并且清洗效率也比较低，限制了半导体制造进程，所以需要针对性的改进设计。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种半自动清洗台投入使用，以解决上述背景技术中提出的问题。

为实现上述目的，本实用新型提供如下技术方案：一种半自动清洗台，包括基座、固定安装于基座上方驱动盛料箱转动的缓速电机，所述基座上开设有用于盛放清洗酸碱液的弧形槽，所述基座的上方转动安装有盛料箱，所述盛料箱的内部连通，且盛料箱的上下端均设有开口，且开口处转动安装有可通过清洗酸碱液的箱盖；

所述盛料箱为上下部对称形状，且以中部为轴转动，当盛料箱转动时，盛料箱的上下端分别转动到弧形槽内；

所述弧形槽的左部设置有下料盘。

优选的，所述盛料箱的内部对称设置有两块弧形板，且弧形板的内侧开设有若干个通孔，所述弧形板以及盛料箱的侧板和箱盖组成一个用于放置清洗件的盛料腔。

优选的，所述箱盖的中部焊接有栅板，所述箱盖的一端与盛料箱转动连接，且另一端与盛料箱卡接。

优选的，所述箱盖靠近盛料箱开口的侧面上铺设有橡胶条，箱盖盖接到开口上时，所述橡胶条压持于盛料箱开口的端面上，所述橡胶条压为丁晴橡胶或氟橡胶材质。

优选的，所述盛料箱通过支架转动安装于基座的上方，所述支架上固定安装有缓速电机，且缓速电机的驱动轴与盛料箱的中部固定连接。

优选的，所述下料盘的底部为斜面，且斜面的低处与弧形槽的左端上沿相接，所述下料盘的右侧板为网板。

本实用新型的技术效果和优点：该半自动清洗台，通过缓速电机带动盛料箱偏转，使得盛料箱两端内部安置的零件可以交替浸泡在清洗液中，并且盛料箱内部的清洗液通过重力可以自上而下的对零件，进行冲洗，清洗更加彻底，效果更好，清洗效率更高。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图2为本实用新型的剖视图；

图3为盛料箱的剖视图。

图中：1、基座；2、盛料箱；3、缓速电机；4、弧形槽；5、开口；6、箱盖；7、下料盘；8、弧形板；9、通孔；10、盛料腔；11、栅板；12、橡胶条；13、支架；14、网板。

具体实施方式

下面将结合本实用新型实施例中的附图，对本实用新型实施例中的技术方案进行清楚、完整地描述，显然，所描述的实施例仅仅是本实用新型一部分实施例，而不是全部的实施例。基于本实用新型中的实施例，本领域普通技术人员在没有做出创造性劳动前提下所获得的所有其他实施例，都属于本实用新型保护的范围。