[实用新型]一种陶瓷波导带通滤波器零点实现结构

说明书

本实用新型提供一种陶瓷波导带通滤波器零点实现结构，包括四个或者四个以上的谐振腔，所述多个谐振腔之间通过多个隔离通槽分隔，还包括有一个或者多个通孔，所述通孔设置于任意两个谐振腔之间，在所述通孔下端占整个通孔深度三分之一的内壁上设置无屏蔽层区域一，在所述结构的下表面上设置有围绕通孔下端面一周的无屏蔽层区域二，在所述结构除去无屏蔽层区域一、无屏蔽层区域二的表面覆盖金属层。通过本实用新型，以解决现有技术存在的抗干扰能力较低，能量损耗较大的问题。

技术领域

本实用新型涉及带通滤波器技术领域，具体地说涉及一种陶瓷波导带通滤波器零点实现结构。

背景技术

随着5G技术的快速布局发展，小型化无源器件滤波器成为主流，小空间、小体积、低损耗、高抑制性成为了行业发展趋势。目前的滤波器对其他通信频段的抗干扰能力较低，滤波器的能量损耗较大。

实用新型内容

本实用新型提供一种陶瓷波导带通滤波器零点实现结构，以解决现有技术存在的抗干扰能力较低，能量损耗较大的问题。

为解决上述技术问题，本实用新型提供一种陶瓷波导带通滤波器零点实现结构，包括四个或者四个以上的谐振腔，所述多个谐振腔之间通过多个隔离通槽分隔，还包括有一个或者多个通孔，所述通孔设置于任意两个谐振腔之间，在所述通孔下端占整个通孔深度三分之一的内壁上设置无屏蔽层区域一，在所述结构的下表面上设置有围绕通孔下端面一周的无屏蔽层区域二，在所述结构除去无屏蔽层区域一、无屏蔽层区域二的表面覆盖金属层。

所述谐振腔上开设有调谐频率盲孔。

所述结构表面通过化学镀、喷涂、浸镀的方式覆盖金属层。

所述结构表面覆盖的金属为金或银或铜。

使用激光蚀刻去除所述无屏蔽层区域一、无屏蔽层区域二的表面金属杂质异物。

所述无屏蔽层区域二的宽度为0.2mm-2mm。

本实用新型带来的有益效果：与现有技术相比，本实用新型的陶瓷波导带通滤波器零点实现结构通过4个以上谐振腔组成带通滤波器，零点结构是在任意两个谐振腔之间有一个或多个通孔构成，每增加一个零点结构可产生一对对称或非对称零点，可以提升滤波器带外抑制，以增加对其他通信频段抗干扰能力，降低损耗。

附图说明

图1是根据本实用新型实施例一的陶瓷波导带通滤波器零点实现结构的俯视图

图2是图1中A-A处的阶梯剖视图

图3是根据本实用新型实施例一的陶瓷波导带通滤波器零点实现结构的仰视图

图4是根据本实用新型实施例一的陶瓷波导带通滤波器零点实现结构的S参数曲线

图5是根据本实用新型实施例二的陶瓷波导带通滤波器零点实现结构的俯视图

图6是图5中B-B处的阶梯剖视图

图7是根据本实用新型实施例二的陶瓷波导带通滤波器零点实现结构的仰视图

其中，1-谐振腔，2-隔离通槽，3-通孔，4-无屏蔽层区域一，5-无屏蔽层区域二，6-调谐频率盲孔。

具体实施方式

为使本实用新型的目的、技术方案和优点更加清楚，以下结合附图及具体实施例，对本实用新型作进一步地详细说明。

实施例一