[实用新型]一种排气取样装置及湿法清洗机有效

专利信息
申请号: 202020328502.8 申请日: 2020-03-16
公开(公告)号: CN211927419U 公开(公告)日: 2020-11-13
发明(设计)人: 蒋峥勇 申请(专利权)人: 上海华力微电子有限公司
主分类号: G01N1/22 分类号: G01N1/22;G01L19/12;H01L21/67;B08B9/032
代理公司: 上海思微知识产权代理事务所(普通合伙) 31237 代理人: 曹廷廷
地址: 201315*** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 排气 取样 装置 湿法 清洗
【说明书】:

实用新型提供了一种排气取样装置及湿法清洗机,其中所述排气取样装置,包括取样管,所述取样管具有相对的取样端和排气端,所述取样端位于湿法清洗机的排气管内并对所述排气管内的排气进行取样,所述取样端包括呈一定夹角的第一管路和第二管路,所述第二管路的一端与所述排气端的一端连接,所述第二管路的另一端与所述第一管路的一端连接,所述第一管路的另一端朝向所述排气管内的排气方向。本实用新型通过将所述第一管路设置成朝向湿法清洗机的排气管内的排气方向以减少取样端的端口处酸性、碱性气体形成的结晶量,保证取样端对排气气体的取样顺畅,从而降低机台发出排气低报警的频率,增加机台运转时间,进而提高机台工作效率。

技术领域

本实用新型涉及半导体技术领域,特别涉及一种排气取样装置及湿法清洗机。

背景技术

在晶圆制作过程中,需要去除晶圆表面上的玷污,这些玷污包括:颗粒物、有机残留、金属污染物、以及自然氧化层等,去除玷污的常用方法是湿法清洗。

湿法清洗的原理主要是利用H2SO4(硫酸)和H2O2(双氧水)组成的混合液腐蚀、氧化玷污,从而达到清洗的目的。常用的湿法清洗机的型号包括DNS SU3100和DNS SU3200,湿法清洗机装有用于监控排气变化的排气取样装置,但是由于湿法清洗机中酸性、碱性气体共用一路排气管,容易在排气取样装置的取样口发生化学反应产生结晶,且由于排气取样装置的取样口管径小容易堆积结晶,导致排气取样装置检测到排气管内排气气压低并发出排气低报警,最终导致湿法清洗机停止运转,晶圆被滞留在湿法清洗机的反应室内,需要手动将晶圆传出反应室,影响了湿法清洗机的工作效率。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种排气取样装置及湿法清洗机,以解决现有技术中湿法清洗机排气低报警频率高、工作效率低的问题。具体技术方案如下:

第一方面,本实用新型提供了一种排气取样装置,用于监控湿法清洗机的排气变化,包括取样管,所述取样管具有相对的取样端和排气端,所述取样端位于湿法清洗机的排气管内并对所述排气管内的排气进行取样,所述取样端包括呈一定夹角的第一管路和第二管路,所述第二管路的一端与所述排气端的一端连接,所述第二管路的另一端与所述第一管路的一端连接,所述第一管路的另一端朝向所述排气管内的排气方向。

可选的,所述第一管路的另一端为取样口,所述取样口为斜口。

可选的,还包括三通阀,所述三通阀与所述排气端的另一端连接,向所述三通阀的一端通入气体,对所述取样管进行吹扫清理。

可选的,向所述三通阀的一端通入氮气。

可选的,所述排气取样装置还设有一压力传感器,所述压力传感器设置在所述取样管内。

可选的,所述压力传感器与一报警装置电连接。

第二方面,本实用新型提供了一种湿法清洗机,包括如第一方面所述的排气取样装置。

本实用新型提供的一种排气取样装置及湿法清洗机,具有以下有益效果:

所述排气取样装置,包括取样管,所述取样管具有相对的取样端和排气端,所述取样端位于湿法清洗机的排气管内并对所述排气管内的排气进行取样,所述取样端包括呈一定夹角的第一管路和第二管路,所述第二管路的一端与所述排气端的一端连接,所述第二管路的另一端与所述第一管路的一端连接,所述第一管路的另一端朝向湿法清洗机的排气管内的排气方向。本实用新型通过将所述第一管路设置成朝向所述排气管内的排气方向以减少取样端的端口处酸性、碱性气体形成的结晶量,保证取样端对排气气体的取样顺畅,从而降低机台发出排气低报警的频率,增加机台运转时间,进而提高机台工作效率。

附图说明

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