[实用新型]光学成像系统有效
| 申请号: | 202020328114.X | 申请日: | 2020-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN211928288U | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
| 发明(设计)人: | 张永明;赖建勋;刘耀维 | 申请(专利权)人: | 先进光电科技股份有限公司 |
| 主分类号: | G02B13/00 | 分类号: | G02B13/00;G02B13/18;G02B13/06 |
| 代理公司: | 北京伟思知识产权代理事务所(普通合伙) 11725 | 代理人: | 聂宁乐;胡瑾 |
| 地址: | 中国台湾台中*** | 国省代码: | 台湾;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 光学 成像 系统 | ||
1.一种光学成像系统,其特征在于,由物侧至像侧依序包含:
第一透镜,具有屈折力;
第二透镜,具有屈折力;
第三透镜,具有屈折力;
第四透镜,具有屈折力;
第五透镜,具有屈折力;
第六透镜,具有屈折力;
第七透镜,具有屈折力;以及
红外光成像面,所述光学成像系统于所述红外光成像面上具有最大成像高度HOI,其中所述光学成像系统具有屈折力的透镜为七枚,所述第一透镜至所述第七透镜中至少一透镜具有正屈折力,所述光学成像系统的焦距为f,所述光学成像系统之入射瞳直径为HEP,所述第七透镜像侧面出光瞳直径为HXP,所述第一透镜物侧面至所述红外光成像面于光轴上具有距离HOS,所述光学成像系统之最大可视角度的一半为HAF,所述光学成像系统于所述红外光成像面上垂直于光轴具有最大成像高度HOI,所述第一透镜至所述第七透镜于1/2HXP高度且平行于光轴之厚度分别为ETP1、ETP2、ETP3、ETP4、ETP5、ETP6以及ETP7,前述ETP1至ETP7的总和为SETP,所述第一透镜至所述第七透镜于光轴之厚度分别为TP1、TP2、TP3、TP4、TP5、TP6以及TP7,前述TP1至TP7的总和为STP,其满足下列条件:0.5≦f/HEP≦1.8;0degHAF≦60deg以及0.5≦SETP/STP1。
2.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述红外光的波长介于700nm至1300nm以及第一空间频率以SP1表示,其满足下列条件:SP1≦440cycles/mm。
3.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述红外光的波长介于850nm至960nm以及第一空间频率以SP1表示,其满足下列条件:SP1≦220cycles/mm。
4.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述红外光成像面间平行于光轴之水平距离为ETL,所述第一透镜物侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述第七透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点间平行于光轴之水平距离为EIN,其满足下列条件:0.2≦EIN/ETL1。
5.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第七透镜像侧面上于1/2HEP高度的坐标点至所述红外光成像面间平行于光轴之水平距离为EBL,所述第七透镜像侧面上与光轴之交点至所述红外光成像面平行于光轴之水平距离为BL,其满足下列公式:0.1≦EBL/BL≦1.5。
6.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第二透镜与所述第二透镜之间于光轴上的距离为IN23,所述第五透镜与所述第六透镜之间于光轴上的距离为IN56,其满足下列条件:IN56IN23。
7.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第三透镜与所述第四透镜之间于光轴上的距离为IN34,所述第五透镜与所述第六透镜之间于光轴上的距离为IN56,其满足下列条件:IN56IN34。
8.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,所述第四透镜与所述第五透镜之间于光轴上的距离为IN45,所述第五透镜与所述第六透镜之间于光轴上的距离为IN56,其满足下列条件:IN56IN45。
9.如权利要求1所述的光学成像系统,其特征在于,更包括光圈,并且于所述光圈至所述红外光成像面于光轴上具有距离InS,其满足下列公式:0.2≦InS/HOS≦1.1。
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