[实用新型]一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置有效
| 申请号: | 202020324803.3 | 申请日: | 2020-03-16 |
| 公开(公告)号: | CN211872086U | 公开(公告)日: | 2020-11-06 |
| 发明(设计)人: | 宋文;孟凡辉;李哲;何奕德;陈芳浩 | 申请(专利权)人: | 中国人民解放军空军军医大学 |
| 主分类号: | C23C18/12 | 分类号: | C23C18/12;C01B33/021 |
| 代理公司: | 西安研创天下知识产权代理事务所(普通合伙) 61239 | 代理人: | 白志杰 |
| 地址: | 710032 陕西*** | 国省代码: | 陕西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 用于 两相 沉积 介孔硅 夹持 装置 | ||
1.一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:包括两个一字形环形单元(1),且每个所述一字形环形单元均为非闭合环形结构;两个所述一字形环形单元(1)嵌套连接形成十字形夹持装置,并且两个所述一字形环形单元(1)中心结合处为镂空,形成用于置放搅拌子(103)的空腔,其四周形成用于夹持钛片的夹持腔(101)。
2.根据权利要求1所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:每个所述夹持腔(101)相对的侧壁上均开设有卡槽(3),钛片能插入卡槽(3)内。
3.根据权利要求2所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:每个所述一字形环形单元(1)上的卡槽(3)具有倾斜角度,角度为15-30度,卡槽(3)的深度与钛片的厚度相适配。
4.根据权利要求3所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:所述一字形环形单元(1)均留有一个开口(2),用于嵌套连接两个一字形环形单元(1),并且开口(2)大小为1-2cm。
5.根据权利要求4所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:所述的一字形环形单元(1)均为金属丝。
6.根据权利要求5所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:所述金属丝是钛丝。
7.根据权利要求1-6任一项所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:每个所述一字形环形单元(1)均为长方形结构。
8.根据权利要求1-6任一项所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:每个所述一字形环形单元(1)的四个角处均一体折弯有45度倒角。
9.根据权利要求1-6任一项所述的一种用于两相法沉积介孔硅的钛片夹持装置,其特征在于:每个所述一字形环形单元(1)的两条短边均为一体折弯有弧形边。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C18-00 通过液态化合物分解抑或覆层形成化合物溶液分解、且覆层中不留存表面材料反应产物的化学镀覆
C23C18-02 .热分解法
C23C18-14 .辐射分解法,例如光分解、粒子辐射
C23C18-16 .还原法或置换法,例如无电流镀
C23C18-54 .接触镀,即无电流化学镀
C23C18-18 ..待镀材料的预处理





