[实用新型]一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置

权利要求书

1.一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，包括溅射靶源（100）、安装在溅射靶源（100）上的靶（1）和载台（200），其特征在于：所述溅射靶源（100）上的靶（1）与所述载台（200）平行对置；所述溅射靶源（100）包括靶源座（4）和磁钢，所述溅射靶源（100）的磁钢和靶（1）在所述靶源座（4）上靠近所述载台（200）的一侧由近及远地固定设置；

所述载台（200）包括载台座（10）、第一板状磁钢（11）和磁靴（12），所述载台（200）的第一板状磁钢（11）和磁靴（12）在所述载台座（10）上远离所述溅射靶源（100）的一侧由近及远地固定设置。

2.根据权利要求1所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述靶源座（4）靠近所述载台（200）的一侧设有安装槽I（4.1），所述溅射靶源（100）的磁钢设于所述安装槽I（4.1）中，所述靶（1）固设于所述安装槽I（4.1）的槽口处。

3.根据权利要求2所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述溅射靶源（100）的磁钢包括紧密贴合设置的第二板状磁钢（2）和小磁钢（3），所述安装槽I（4.1）的槽底设有安装槽II（4.6），所述小磁钢固设于所述安装槽II（4.6）中。

4.根据权利要求3所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述小磁钢（3）胶接固设于所述安装槽II（4.6）中，所述第二板状磁钢（2）的两侧涂覆导热涂层，其紧贴所述小磁钢（3）的一侧还与所述安装槽I（4.1）的槽底紧密贴合，与该侧相对的另一侧与所述靶（1）紧密贴合。

5.根据权利要求1所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述载台座（10）远离所述溅射靶源（100）的一侧设有安装槽III（10.1），所述载台（200）的第一板状磁钢（11）设于所述安装槽III（10.1）中，所述磁靴（12）固设于所述安装槽III（10.1）的槽口处。

6.根据权利要求1所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述靶源座（4）远离所述载台（200）的一侧设有腔体（4.2）和密封所述腔体（4.2）的密封板（5）；所述腔体（4.2）中设有中心柱（4.4）和若干针状结构（4.5），所述密封板（5）的中心孔（5.1）和所述中心柱（4.4）之间密封连接；所述密封板（5）设有进出、水管道（5.2、5.3）。

7.根据权利要求6所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述密封板（5）与所述靶源座（4）之间通过密封圈密封连接，所述密封板（5）的中心孔（5.1）和所述中心柱（4.4）之间通过轴封（6）密封连接。

8.根据权利要求6所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述溅射靶源（100）还包括安装环（7），所述安装环（7）、密封板（5）和靶源座（4）通过螺钉I（14）依次固连，所述靶（1）和所述靶源座（4）通过螺钉II（9）固连，所述磁靴（12）和所述载台座（10）通过螺钉III（13）固连；所述安装环（7）和所述密封板（5）之间通过绝缘组件（8）相互绝缘设置。

9.根据权利要求8所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述绝缘组件（8）包括绝缘套（8.1）和绝缘环（8.2），所述绝缘套（8.1）设于所述螺钉I（14）和所述安装环（7）上供所述螺钉I（14）穿过的孔之间，所述绝缘环（8.2）设于所述安装环（7）和所述密封板（5）之间。

10.根据权利要求1所述的一种能够改善内壁镀膜均匀性的镀膜装置，其特征在于：所述靶（1）与所述载台座（10）之间的距离为1～10cm，所述溅射靶源（100）中的磁钢的磁极方向与所述载台（200）中的第一板状磁钢（11）的磁极方向一致。