[实用新型]一种淋釉装置

说明书

本实用新型涉及施釉设备领域，特别是一种淋釉装置。该种淋釉装置，包括从上到下依次设置的淋釉钟罩、皮带、接釉槽，淋釉钟罩用以使釉浆形成釉幕，皮带设有两条，且平行设置，皮带上架放有放置坯体的坯托，坯托包括依次设置的放置座、支撑杆、底座，坯托的底座置于皮带上，通过皮带带动坯托通过釉幕进行淋釉工序，各皮带上方分别设有一挡釉板，挡釉板间具有可容纳坯托的支撑杆通过的间隙，挡釉板阻挡釉幕落于皮带上，且挡釉板引导釉幕流至接釉槽内。本实用新型生产效率高，减轻工人强度，降低对输送带的损坏。

技术领域

本实用新型涉及施釉设备领域，特别是一种淋釉装置。

背景技术

现有传统日用陶瓷汤槽、平槽坯体、瓷砖施釉工艺中，普遍采用的是机轮浇釉，方法是将坯体置于旋转的屯头上，用排笔拉水后，将釉浆倾入坯体中心，在离心作用下，使釉浆从坯体中心向周围散开而均布于坯体表面。此施釉方法是工人一件一件地操作，工人劳动强度大，生产效率低，而且不可避免地形成釉珠、釉缕、薄釉等成型缺陷。

为解决上述问题，授权公告号为CN 206748704 U的中国专利公开了一种整体淋釉系统，包括吹灰加湿机构、淋釉机构和遮挡机构，吹灰加湿机构包括吹灰机、喷雾加湿器，输送带上的瓷砖砖坯依次经过吹灰风机除尘和喷雾加湿器的淋雾湿润，淋釉机构包括釉料斗、球面淋釉槽、接料槽和接料斗，釉料斗上安装有进料管和溢料管，进料管与接料槽连接，接料槽安装在球面淋釉槽淋釉点的正下方并具有倾斜角度，接料斗通过泵将釉料输送进釉料斗，溢料管与料筒相连，釉料斗的釉料出口上方安装有过滤网，釉料斗的出口段安装有截止阀。现有的整体淋釉系统，通过釉料斗内的过滤网和球面淋釉槽表面的不粘涂层，保证了不会出现块状颗粒粘结在球面淋釉槽上造成淋釉裂缝的出现，釉料快速回收并直接返送进釉料斗内循环使用，降低生产成本的同时提高了效率，使坯体由输送带经过釉幕淋洒，表面留下均匀釉层，克服传统上釉工艺中釉珠、釉缕、薄釉等缺陷，使坯体釉面光滑，釉层均匀；但根据上述公开的一种整体淋釉系统的附图2可知，釉幕淋洒坯体时，釉幕也对输送带进行淋洒，造成对输送带的损坏，长期如此，降低了输送带的使用寿命。

实用新型内容

本实用新型的主要目的是克服现有技术的缺点，提供一种生产效率高，减轻工人强度，降低对输送带的损坏的淋釉系统。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案如下：

一种淋釉装置，包括从上到下依次设置的淋釉钟罩、皮带、接釉槽，所述淋釉钟罩用以使釉浆形成釉幕，所述皮带设有两条，且平行设置，皮带上架放有放置坯体的坯托，所述坯托包括依次设置的放置座、支撑杆、底座，所述坯托的底座置于皮带上，通过皮带带动坯托通过釉幕进行淋釉工序，所述各皮带上方分别设有一挡釉板，挡釉板间具有可容纳坯托的支撑杆通过的间隙，所述挡釉板阻挡釉幕落于皮带上，且挡釉板引导釉幕流至接釉槽内。

进一步的，所述挡釉板朝向外侧向下倾斜设置。

进一步的，所述挡釉板的两边设有侧板，侧板间连接有一缓流板，所述缓流板设于挡釉板的低位端，且缓流板与挡釉板间形成有可使釉浆通过的流通口。

进一步的，所述缓流板朝向内侧向下倾斜设置，且缓流板的长度延伸至流通口的下方，以引导釉浆缓流至接釉槽内。

进一步的，还包括设于淋釉钟罩表面的两条挡釉条，所述挡釉条采用柔性材料制成，挡釉条底面与淋釉钟罩表面密封贴合设置，使釉浆于所述挡釉条间沿着淋釉钟罩表面向下流动，以形成垂直下落的弧形釉幕。

进一步的，所述挡釉条延伸出淋釉钟罩的底边，且挡釉条位于挡釉板的缓流板的内侧，使釉幕落至挡釉板的缓流板之间。

进一步的，所述挡釉条呈长条形，挡釉条的横截面由寛到窄，所述设于淋釉钟罩表面的两条挡釉条相对的一面为窄面，且宽面到窄面之间形成凹陷的弧形面。

进一步的，所述挡釉条的底面设有粘性层，挡釉条通过粘性层与淋釉钟罩的表面密封贴合。