[实用新型]一种纳米真空镀膜仪

说明书

本实用新型公开一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚位于真空镀膜室底部，所述真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括第一架体和第二架体，第一架体和第二架体均包括装载盘以及固定在装载盘两侧的电动旋转杆，装载盘一侧固定有电磁吸附装置。本实用新型的优点在于：第一架体和第二架体的设置，由于其固定有现有的电磁吸附装置，可以对于需要镀膜的零件进行固定，且第一架体和第二架体可以配合吸附后旋转，完成对于待镀膜零件的翻面镀膜；滑轨的设置能够使得第一架体和第二架体之间能够分离，使得装载盘能够进行旋转，完成对于需要镀膜的零件的整体镀膜。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及一种纳米真空镀膜仪。

背景技术

真空镀膜即是在真空中把金属合金或者化合物进行蒸发和溅射，使其在被涂覆的物体上凝固并沉积的方法。现有的真空镀膜并不能将需要镀膜的零件的表面全部镀膜，因此获得一种可以将需要镀膜的零件表面全部镀膜的真空镀膜装置十分重要。

实用新型内容

本实用新型的目的是针对上述问题，提供一种纳米真空镀膜仪，包括真空镀膜仪本体，其包括蒸发源、蒸发坩埚以及真空镀膜室，蒸发坩埚位于真空镀膜室底部，所述真空镀膜室内设置有镀膜零件架，还包括电磁吸附装置，镀膜零件架包括第一架体和第二架体，第一架体和第二架体均包括装载盘以及固定在装载盘两侧的电动旋转杆，装载盘一侧固定有电磁吸附装置。

通过上述技术方案，第一架体和第二架体的设置，由于其固定有现有的电磁吸附装置，可以对于需要镀膜的零件进行固定，且第一架体和第二架体可以配合吸附后旋转，完成对于待镀膜零件的翻面镀膜。

蒸发源以及蒸发干锅均设置有三个，且呈等边三角形排布，有助于增加镀膜的效率，增加蒸发的范围。

作为上述一种优选方式，真空镀膜室内壁上固定有滑轨，滑轨上配合有行程车，其中行程车以及滑轨构成现有的直线导轨，行程车可以受控制在导轨上进行移动。

其中，滑轨具有两种实施方式，其一：滑轨有两个，且对立设置，每个滑轨上具有两个行程车。其二：滑轨具有两组，每组滑轨具有两个滑道，滑道对立设置，每个滑道上配合有一个行程车。

通过上述技术方案，滑轨的设置能够使得第一架体和第二架体之间能够分离，使得装载盘能够进行旋转，完成对于需要镀膜的零件的整体镀膜。

与现有技术相比，本实用新型的优点在于：第一架体和第二架体的设置，由于其固定有现有的电磁吸附装置，可以对于需要镀膜的零件进行固定，且第一架体和第二架体可以配合吸附后旋转，完成对于待镀膜零件的翻面镀膜；滑轨的设置能够使得第一架体和第二架体之间能够分离，使得装载盘能够进行旋转，完成对于需要镀膜的零件的整体镀膜。

附图说明

图1为本实用新型主视图；

图2为另一形式本实用新型主视图。

附图标记：1-真空镀膜仪本体；2-蒸发源；3-蒸发坩埚；4-真空镀膜室；5-电磁吸附装置；6-第一架体；7-第二架体；8-装载盘；9-电动旋转杆；10-滑轨；11-行程车。

具体实施方式

为了使本领域技术人员更好地理解本实用新型，从而对本实用新型要求保护的范围作出更清楚地限定，下面就本实用新型的某些具体实施例对本实用新型进行详细描述。需要说明的是，以下仅是本实用新型构思的某些具体实施方式仅是本实用新型的一部分实施例，其中对于相关结构的具体的直接的描述仅是为方便理解本实用新型，各具体特征并不当然、直接地限定本实用新型的实施范围。