[实用新型]低辐射玻璃

说明书

本实用新型属于玻璃技术领域，尤其涉及一种低辐射玻璃，该低辐射玻璃包括玻璃基板、低辐射膜层和氧化锆层，低辐射膜层包括依次叠层设置的第一介质层、第一银层、第一保护层、第二介质层、第二银层、第二保护层和第三介质层，第一介质层背向第一银层的表面与玻璃基板连接并覆盖于玻璃基板上；氧化锆层与第三介质层背向第二保护层的表面连接并覆盖于第三介质层上。本实用新型的低辐射玻璃，通过在低辐射膜层的表面覆盖设置氧化锆层，大大增加了其抗氧化性能和抗划伤性能，大大提高低辐射玻璃在生产加工过程中的成品率，极大降低生产加工过程中的低辐射膜层划伤、氧化等报废，减少玻璃原料的浪费。

技术领域

本实用新型属于玻璃技术领域，尤其涉及一种低辐射玻璃。

背景技术

Low-E玻璃又称低辐射玻璃，是在玻璃表面镀上Low-E膜，Low-E膜由多层金属或其他化合物组成，特别是Low-E膜里面含有纯银层，对红外线具有高强的反射率，使Low-E玻璃具有一定的节能性。但是Low-E膜内的银层，使得LOW-E膜的抗氧化性较差，长时间暴露在空气中极容易氧化，Low-E膜最外层氮硅化合物介质层耐磨能力较差，很容易产生划伤。现有的LOW-E镀膜玻璃在生产加工过程中，存在极容易产生氧化、划伤、擦伤等问题。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种Low-E玻璃，旨在解决现有技术中的Low-E玻璃存在极容易产生氧化、划伤、擦伤等技术问题。

为实现上述目的，本实用新型采用的技术方案是：一种低辐射玻璃，包括玻璃基板、低辐射膜层和氧化锆层，所述低辐射膜层包括依次叠层设置的第一介质层、第一银层、第一保护层、第二介质层、第二银层、第二保护层和第三介质层，所述第一介质层背向所述第一银层的表面与所述玻璃基板连接并覆盖于所述玻璃基板上；所述氧化锆层与所述第三介质层背向所述第二保护层的表面连接并覆盖于所述第三介质层上。

可选地，所述氧化锆层为纳米氧化锆层。

可选地，所述氧化锆层的厚度范围为10nm～15nm。

可选地，所述第一介质层和所述第三介质层均为氮化物层或者氧化物层。

可选地，所述第二介质层为氮化物层。

可选地，所述第一保护层和所述第二保护层均为金属层。

可选地，所述第一介质层的厚度范围为20nm～25nm，所述第二介质层的厚度范围为50nm～55nm。

可选地，所述第三介质层的厚度范围为45nm～55nm。

可选地，所述第一保护层的厚度范围为2nm～3nm，所述第二保护层的厚度范围为1nm～1.5nm。

可选地，所述第一银层的厚度范围为12nm～15nm，所述第二银层的厚度范围为10nm～12nm。

本实用新型提供的低辐射玻璃中的上述一个或多个技术方案至少具有如下技术效果之一：该低辐射玻璃的低辐射膜层的表面覆盖有氧化锆层，氧化锆层的化学性能稳定及抗氧化性能好，氧化锆层可以防止低辐射膜层内的第一银层和第二银层氧化，提高该低辐射玻璃的抗氧化性能，另外，氧化锆层的硬度高，大大提高了低辐射玻璃的抗划伤性能；本实用新型的低辐射玻璃，通过在低辐射膜层的表面覆盖设置氧化锆层，大大增加了其抗氧化性能和抗划伤性能，大大提高低辐射玻璃在生产加工过程中的成品率，极大降低生产加工过程中的低辐射膜层划伤、氧化等报废，减少玻璃原料的浪费。

附图说明

为了更清楚地说明本实用新型实施例中的技术方案，下面将对实施例或现有技术描述中所需要使用的附图作简单地介绍，显而易见地，下面描述中的附图仅仅是本实用新型的一些实施例，对于本领域普通技术人员来讲，在不付出创造性劳动性的前提下，还可以根据这些附图获得其他的附图。

图1为本实用新型实施例提供的低辐射玻璃的截面图。