[实用新型]呈现增强现实图像的装置和实现增强现实显示的系统有效

专利信息
申请号: 202020225546.8 申请日: 2020-02-28
公开(公告)号: CN212515221U 公开(公告)日: 2021-02-09
发明(设计)人: 罗明辉;乔文;成堂东;李瑞彬;李玲;朱平;陈林森 申请(专利权)人: 苏州苏大维格科技集团股份有限公司
主分类号: G02B27/01 分类号: G02B27/01;G02B6/00
代理公司: 中国专利代理(香港)有限公司 72001 代理人: 李湘;闫小龙
地址: 215123 江*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 呈现 增强 现实 图像 装置 实现 显示 系统
【权利要求书】:

1.一种呈现增强现实图像的装置,其特征在于,包含:

光波导镜片;以及

位于所述光波导镜片表面的第一二维光栅阵列;

位于所述光波导镜片表面的第二二维光栅阵列,

其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列在所述光波导镜片表面上的位置被设置为使二者的较大的边相对,

其中,所述第一二维光栅阵列配置为使入射至所述第一二维光栅阵列的光线一方面扩展至整个所述第一二维光栅阵列,另一方面传播至所述第二二维光栅阵列,

其中,所述第二二维光栅阵列配置为使传播至所述第二二维光栅阵列的光线一方面扩展至整个所述第二二维光栅阵列,另一方面从所述光波导镜片出射,

其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列具有相同的周期。

2.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列配置为使从所述第一二维光栅阵列出射的光线在所述光波导镜片内以全反射方式传播至所述第二二维光栅阵列。

3.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列的两个光栅取向的夹角被设置得足够大以避免在所述第二二维光栅阵列的中部形成高亮度区域。

4.如权利要求3所述的装置,其中,所述夹角在90°~160°之间。

5.如权利要求1所述的装置,其中,所述第二二维光栅阵列的光栅是变深度调制的。

6.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列的结构形貌为由下列种类构成的组中的其中一种:圆柱形、圆锥形、方形和梯形。

7.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列为矩形。

8.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列的面向所述第二二维光栅阵列的边的中段与两端相比更为远离所述第二二维光栅阵列。

9.如权利要求8所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列的面向所述第二二维光栅阵列的边包围至少一部分所述第二二维光栅阵列。

10.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列直接形成于所述光波导镜片的表面。

11.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列借助中间层形成于所述光波导镜片的表面。

12.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列位于所述光波导镜片的同一表面。

13.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列位于所述光波导镜片的相对的两个表面。

14.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列包含分别位于所述光波导镜片的相对的两个表面的一维光栅阵列,所述第二二维光栅阵列位于所述相对的两个表面的其中一个。

15.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列之间具有间距。

16.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列是紧邻在一起的。

17.如权利要求1所述的装置,其中,所述光波导镜片的端面涂覆光吸收层。

18.如权利要求1所述的装置,其中,所述第一二维光栅阵列和所述第二二维光栅阵列的光栅周期为200nm-600nm。

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