[实用新型]射流抛光系统

说明书

本实用新型公开了一种射流抛光系统，包括多个射流抛光工位，每个射流抛光工位都设有集液槽，各集液槽分别设有排液泵，各排液泵分别外接排液支管，各排液支管分别与排液总管连接，排液总管还与集液池连接；集液池由左至右依次分隔出：磨料粒子回收仓、进液仓和净液仓；排液总管伸入进液仓中。本实用新型射流抛光系统，其能对射流抛光产生的废液进行处理，回收废液中的磨料粒子。

技术领域

本实用新型涉及磨料水射流抛光领域，具体涉及一种射流抛光系统。

背景技术

磨料水射流抛光技术，利用含有细小磨料粒子的抛光液在高压作用下，与工件表面发生冲击、冲蚀而微去除材料，以达到抛光目的。

射流抛光产生的废液中含有较多磨料粒子，如不回收再利用，会造成浪费。

实用新型内容

本实用新型的目的在于提供一种射流抛光系统，其能对射流抛光产生的废液进行处理，回收废液中的磨料粒子。

为实现上述目的，本实用新型的技术方案是设计一种射流抛光系统，包括多个射流抛光工位，每个射流抛光工位都设有：集液槽，设于集液槽内腔上部、且用于夹持工件的夹具，设于夹具上方、且对夹具上的工件进行射流抛光的射流抛光用喷嘴；各射流抛光用喷嘴分别外接有向其供应抛光液的抛光液供应管路，抛光液由水和磨料粒子组成；各集液槽的内腔底部分别设有排液泵，各排液泵的输出端分别外接排液支管，各排液支管分别伸出集液槽并与排液总管连接；

所述排液总管还与集液池连接；集液池由左至右依次分隔出：磨料粒子回收仓、进液仓和净液仓；集液池顶部由盖板封闭，排液总管贯穿盖板并伸入进液仓中；进液仓中设有第一搅拌装置；

所述磨料粒子回收仓与进液仓由第一分隔组件分隔，第一分隔组件由竖置的第一隔板和斜置的第一滤网组成；第一隔板的底端与集液池的底壁连接，第一隔板的顶端与第一滤网的底端连接，第一滤网的顶端向右倾斜，且第一滤网的顶端与盖板连接；第一滤网可供不大于磨料粒子粒径的粒子通过；磨料粒子回收仓中设有第二搅拌装置和第一供液泵；第一供液泵的输出端外接第一出液管，第一出液管由进液仓的左侧壁伸出，且第一出液管的外端还通过三通管连接回液管和抛光液回收管；回液管与磨料粒子回收仓连通，回液管上设有回液阀；集液池的左侧设有抛光液回收池，抛光液回收管与抛光液回收池的顶部连通，抛光液回收管上设有回收阀；抛光液回收池中设有第三搅拌装置；

所述净液仓与进液仓由第二分隔组件分隔，第二分隔组件由竖置的第二隔板和斜置的第二滤网组成；第二隔板的底端与集液池的底壁连接，第二隔板的顶端与第二滤网的底端连接，第二滤网的顶端向左倾斜，且第二滤网的顶端与盖板连接；第二滤网可拦截磨料粒子；净液仓中设有第二供液泵；第二供液泵的输出端外接第二出液管，第二出液管由净液仓的右侧壁伸出，集液池的右侧设有净液回收池，第二出液管与净液回收池的顶部连通；

所述第一出液管上设有光电式水质浑浊度检测装置；所述光电式水质浑浊度检测装置，其对流经第一出液管的液体进行水质浑浊度检测，且检测出水质浑浊度超标时向外输出浑浊度超标信号，检测出水质浑浊度未超标时向外输出浑浊度未超标信号；

所述回液阀、回收阀都为电磁阀，且回液阀、回收阀和第二供液泵分别与光电式水质浑浊度检测装置连接；回液阀和第二供液泵由浑浊度未超标信号触发开启，且回液阀和第二供液泵由浑浊度超标信号触发关闭；回收阀由浑浊度超标信号触发开启，且回收阀由浑浊度未超标信号触发关闭。

优选的，各抛光液供应管路上分别设有抛光液供应阀。

优选的，各射流抛光工位的集液槽分别设有第四搅拌装置。

本实用新型的优点和有益效果在于：提供一种射流抛光系统，其能对射流抛光产生的废液进行处理，回收废液中的磨料粒子。