[实用新型]一种石墨盘有效
| 申请号： | 202020205875.6 | 申请日： | 2020-02-25 |
| 公开（公告）号： | CN211848133U | 公开（公告）日： | 2020-11-03 |
| 发明（设计）人： | 周宏敏;王瑜;唐超;李政鸿;林兓兓;张家豪 | 申请（专利权）人： | 安徽三安光电有限公司 |
| 主分类号： | C23C16/458 | 分类号： | C23C16/458;C30B25/12 |
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| 地址： | 241000 安徽*** | 国省代码： | 安徽;34 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 石墨 | ||
1.一种石墨盘，用于放置晶片，包括复数个放置晶片的凹槽，其特征在于：所述石墨盘包括内圈盘和外圈盘，所述内圈盘和外圈盘的下端中心分别连接内圈转轴和外圈转轴。
2.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述外圈盘的中间部分具有放置内圈盘的凹陷区。
3.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述内圈盘和外圈盘通过卡槽或者螺栓连接。
4.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述内圈转轴和外圈转轴的旋转速率不同。
5.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述凹槽的尺寸与所承载的晶片尺寸相匹配。
6.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述内圈盘和外圈盘表面均具有碳化硅保护层。
7.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述凹槽的底部为平整状或者凹陷状或者突起状。
8.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述内圈盘下端中心具有第一孔洞，所述内圈转轴插入第一孔洞内；所述外圈盘下端中心具有第二孔洞，所述外圈转轴插入第二孔洞内。
9.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述外圈转轴包裹内圈转轴，使内圈转轴在外圈转轴内旋转。
10.根据权利要求1所述的一种石墨盘，其特征在于：所述内圈转轴下端连接第一磁流体，所述外圈转轴下端连接第二磁流体，所述第一磁流体和第二磁流体分别驱动内圈转轴和外圈转轴旋转。
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C23C 对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆，例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上，例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的
