[实用新型]一种涂胶机托盘

说明书

本实用新型涉及一种涂胶机托盘，包括本体，所述本体具有供晶圆承载台置于其内的凹腔，所述本体的底部开设有供转台伸入凹腔内的穿孔，其特征在于：所述凹腔内设有能套设在转台上的套筒部，该套筒部自穿孔的周缘处向上延伸，且所述套筒部和凹腔共同围成能够积存残胶的存胶区域。本实用新型的托盘内设有套设在转台上的套筒部，套筒部和托盘的内壁共同构成能够积聚残胶的存胶区域，这样一定量的残胶可积存在存胶区域中，待多次旋涂晶圆后再进行清理，减少涂胶后清洁的次数和步骤；并且晶圆承载台位于托盘内，能防止光刻胶残胶被甩至机台上、对机台内部造成污染。

技术领域

本实用新型属于半导体光刻胶涂布技术领域，具体涉及一种涂胶机托盘。

背景技术

半导体制造制程当中有晶圆表面光刻胶涂布的工艺，需要在晶圆表面涂覆光刻胶，具体为在晶圆中心挤入一定量的光刻胶，再利用高速旋转的离心力使得光刻胶均匀旋涂在晶圆表面，在高速旋转下，会有残胶被甩出，造成污染机台或堵塞管路的问题。

针对上述问题，专利号为CN201711193667.8(公布号为CN 107783374A)的中国发明专利申请公布的《一种控制光刻胶溅射的涂胶机系统》，包括涂胶机腔体和设置于涂胶机内腔的载片台以及晶圆；涂胶机腔体的竖直方向设置有抽气系统，涂胶机内腔的侧壁在高度方向上对应于晶圆及其以上的区域向内倾斜，使得光刻胶微粒溅射的主要方向改为向下溅射，涂胶机腔体的侧壁顶端向腔体轴心延展形成导流护板，整体形成从顶端中心向两侧下行的气流导向，使得从晶圆表面甩出的光刻胶微粒被抽气系统带走。

涂胶机内腔的侧壁在高度方向上对应于晶圆及其以上的部分改为倾斜区域，不仅将光刻胶微粒溅射的主要方向从之前的四周方向随机溅射更改为向下溅射，减轻其对晶圆表面的影响，也能防止残胶被甩出至涂胶机的内腔外造成机台污染。

但是上述专利还存在如下缺陷：1、需要设置抽风系统将光刻胶微粒带走，否则在每次涂胶完成后都需要清洗涂胶机内腔，但是抽风系统造成涂胶机涉及部件多、结构复杂；2、涂胶机在旋涂过程中会在内部形成空气回流，而涂胶机的内腔没有形成密封环境，这种情况下会将污染物带入，造成旋涂的污染。

实用新型内容

本实用新型所要解决的技术问题是针对现有技术的现状，提供一种结构简单、能积存一定的残胶以进行多次旋涂后再清洗的涂胶机托盘。

本实用新型解决上述技术问题所采用的技术方案为：一种涂胶机托盘，包括本体，所述本体具有供晶圆承载台置于其内的凹腔，所述本体的底部开设有供转台伸入凹腔内的穿孔，其特征在于：所述凹腔内设有能套设在转台上的套筒部，该套筒部自穿孔的周缘处向上延伸，且所述套筒部和凹腔共同围成能够积存残胶的存胶区域。

为了使残胶向下聚集至存胶区域以方便清洁，所述本体的凹腔呈碗状。

为了防止因空气回旋造成的外部污染物进入凹腔中，所述凹腔顶部敞口，所述本体的顶部设有使本体和盖设在本体上的盖板之间形成密封的第一密封圈。这样防止污染物进入凹腔中污染晶圆，能够明显减少涂胶机在涂胶过程中在晶圆表面形成的脏污；另外，盖板也能防止残胶被甩出至凹腔外部、污染机台的作用，并且凹腔内形成密封环境能进一步防止残胶被甩出至凹腔外部。

为了便于设置第一密封圈，所述本体的顶部开设有一圈供第一密封圈嵌设于内的第一嵌槽。

为了进一步提高凹腔和盖板围成的空间之间的密封性，防止因空气回旋造成的外部污染物进入凹腔中，所述本体上设有围在穿孔外周并使本体和转台之间形成密封的第二密封圈，防止污染物从穿孔处进入凹腔中。

为了便于设置第二密封圈，所述第二密封圈设于本体的外壁上，且所述本体外壁上开设有一圈供第二密封圈嵌设于内的第二嵌槽。相对于将第二密封圈设置在凹腔内，在本体的外部会更容易设置。