[实用新型]一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置

权利要求书

1.一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置，包括靶（2）；其特征在于：所述脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置还包括电源单元、真空室（1）、磁轭筒（3）、内线圈（4）、外线圈（5）、水冷箱（11）、绝缘套筒（12）、压紧套（13）、绝缘环（16）、连接板（15）、绝缘垫（14）、连接套筒（17）及磁轭柱（18）；所述电源单元包括匹配单元（7）、HiPIMS电源（8）、外线圈电源（9）及内线圈电源（10）；

所述绝缘套筒（12）可拆卸套装在水冷箱（11）外侧，所述压紧套（13）可拆卸套装在绝缘套筒（12）外侧，压紧套（13）上端将所述靶（2）压紧并紧密贴附于水冷箱（11）上表面，水冷箱（11）侧壁的下部设有进水口（19）和回水口（20），所述连接板（15）设置在水冷箱（11）下部且二者可拆卸连接，所述绝缘垫（14）位于连接板（15）与连接套筒（17）之间，连接板（15）与绝缘垫（14）及连接套筒（17）可拆卸连接，所述磁轭筒（3）上端设置在连接套筒（17）内且二者可拆卸连接，所述磁轭柱（18）沿竖向设置在磁轭筒（3）内且二者可拆卸连接，所述内线圈（4）设置在磁轭柱（18）与磁轭筒（3）之间，所述外线圈（5）套装在磁轭筒（3）上，水冷箱（11）外侧由内至外依次紧密套装有绝缘环（16）和真空室（1），真空室（1）侧壁和靶（2）分别连接HiPIMS电源（8）的阳极和阴极，所述内线圈（4）与内线圈电源（10）连接，所述外线圈（5）与外线圈电源（9）连接，所述匹配单元（7）用于调控HiPIMS电源（8）与外线圈电源（9）和内线圈电源（10）之间的脉冲相位，在电源单元作用下，在HiPIMS脉冲电压持续期间在靶（2）表面获得磁力线（6）。

2.根据权利要求1所述的一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置，其特征在于：所述绝缘套筒（12）、绝缘环（16）及绝缘垫（14）均由聚四氟乙烯材料制成。

3.根据权利要求1所述的一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置，其特征在于：所述磁轭筒（3）及磁轭柱（18）均由工业纯铁材料制成。

4.根据权利要求1所述的一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置，其特征在于：所述水冷箱（11）、压紧套（13）、连接板（15）及连接套筒（17）均由不锈钢材料制成。

5.根据权利要求1所述的一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置，其特征在于：所述靶（2）表面中心区域磁场强度为5-300 mT。

6.根据权利要求1所述的一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置，其特征在于：所述磁轭柱（18）直径为2-50mm。

7.根据权利要求1所述的一种脉冲磁场调控HiPIMS放电靶装置，其特征在于：所述磁轭筒（3）壁厚为2-10mm。