[实用新型]一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置

说明书

本实用新型公开了一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置，包括磁控溅射靶、设置在磁控溅射靶顶部的挡板及设置在挡板上的挡板打开装置，所述挡板打开装置包括联轴套筒、第一电机、第一钢丝绳及第一转轴，所述联轴套筒固定设置在挡板上，所述第一转轴设置在第一电机上，所述第一钢丝绳一端与联轴套筒固定连接，另一端与第一转轴固定连接。本实用新型的有益效果：设计巧妙，结构合理，使用方便；应用本装置辅助挡板打开，保证了挡板打开的充分性，提高了所镀薄膜的均匀性和成品率，且整个装置占用真空室内部空间较小，控制简单，拆卸方便，对薄膜的研究领域具有重要意义。

技术领域

本实用新型涉及真空镀膜领域，具体涉及一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置。

背景技术

磁控溅射设备是一种利用物理气相沉积法进行真空镀膜的实验仪器，通过电离出的离子轰击靶材，溅射出的靶材原子沉积在基片上制成薄膜，可以制备金属薄膜、半导体薄膜、高聚物薄膜等多种材料的薄膜。

在进行磁控溅射镀膜过程中，需要在挡板关闭状态下进行靶材的启辉及预溅射，然后再打开挡板开始镀膜。但是，在打开挡板的操作中往往会出现挡板打不开或打开不充分的情况，使得靶材被挡板部分遮住，靶材上的成分沉淀到挡板上，从而使得材料利用率和镀膜效率降低，并对所镀薄膜的均匀性产生影响。于此同时，由于内腔在实验过程中处于真空状态，无法从外部进行手动调整。这就对挡板打开的充分性提出了要求，以确保实验的连续性、稳定性。

实用新型内容

针对现有技术中存在的上述问题，本实用新型的目的在于提供一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置，以实现在挡板无法完全打开的情况下，辅助挡板完全打开。

本实用新型采用以下技术方案：

一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置，其特征在于，包括磁控溅射靶、设置在磁控溅射靶顶部的挡板及设置在挡板上的挡板打开装置，所述挡板打开装置包括联轴套筒、第一电机、第一钢丝绳及第一转轴，所述联轴套筒固定设置在挡板上，所述第一转轴设置在第一电机上，所述第一钢丝绳一端与联轴套筒固定连接，另一端与第一转轴固定连接；所述挡板上还设有挡板辅助打开装置，所述挡板辅助打开装置包括第二电机、第二转轴、第二钢丝绳及收绳轮，所述第二转轴与第二电机相连，所述收绳轮设置在第二转轴上端位置处，所述第二钢丝绳一端与挡板固定，另一端与收绳轮固定。

所述的一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置，其特征在于，所述第一转轴的上端相对位置处设有第一固定销及第二固定销，所述第一钢丝绳通过第一固定销及第二固定销夹紧在第一转轴内。

所述的一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置，其特征在于，所述联轴套筒上设有夹紧螺母，所述第一钢丝绳通过夹紧螺母固定在联轴套筒上。

所述的一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置，其特征在于，所述收绳轮上设有限位槽，所述第二钢丝绳绕设在限位槽内。

所述的一种磁控溅射仪挡板辅助打开装置，其特征在于，所述收绳轮上设有限位销，所述第二钢丝绳一端固定在限位销上。

本实用新型的有益效果：设计巧妙，结构合理，使用方便；应用本装置辅助挡板打开，保证了挡板打开的充分性，提高了所镀薄膜的均匀性和成品率，且整个装置占用真空室内部空间较小，控制简单，拆卸方便，对薄膜的研究领域具有重要意义。

附图说明

图1为本实用新型的结构示意图；

图中：1-磁控溅射靶，2-挡板，3-第一钢丝绳，4-第二钢丝绳，5-联轴套筒，6-夹紧螺母，7-限位销，8-第二转轴，9-第一固定销，10-第二固定销，11-第一转轴，12-第一电机，13-第二电机。

具体实施方式

以下结合说明书附图对本实用新型的技术方案做进一步的描述：