[实用新型]喷砂区域可调节的喷砂治具有效
| 申请号: | 202020135651.2 | 申请日: | 2020-01-20 |
| 公开(公告)号: | CN211565568U | 公开(公告)日: | 2020-09-25 |
| 发明(设计)人: | 陆雄;王文彬;魏航;陶金;周文 | 申请(专利权)人: | 重庆芯洁科技有限公司 |
| 主分类号: | B24C1/08 | 分类号: | B24C1/08;B24C3/00 |
| 代理公司: | 北京中政联科专利代理事务所(普通合伙) 11489 | 代理人: | 秦佩 |
| 地址: | 400000 重庆市九龙*** | 国省代码: | 重庆;50 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 喷砂 区域 调节 | ||
本实用新型涉及喷砂设备技术领域,提供了一种喷砂区域可调节的喷砂治具,包括治具盖和治具座,治具座上形成有用于容纳半导体衬底的放置槽,还包括多个喷砂板,治具盖的一侧与治具座的一侧铰接、另一侧与治具座的另一侧可拆卸连接,治具盖的内部具有容置腔,容置腔在治具盖的另一侧形成敞口,治具盖上开设有贯穿的第一开口,每个喷砂板的大小均与容置腔的大小相适应,喷砂板上贯穿开设有构成喷砂区域的第二开口,喷砂板可从敞口处放入容置腔内、并通过连接结构固定。本实用新型提供的一种喷砂区域可调节的喷砂治具,喷砂区域可以调节,降低了工人的劳动强度,并且减少了工厂的成本。
技术领域
本实用新型涉及喷砂设备技术领域,具体涉及一种喷砂区域可调节的喷砂治具。
背景技术
在半导体衬底的使用过程中,必须定期或不定期地对半导体衬底的表面进行清洗,才能维持半导体衬底的良好性能,保证其正常使用。
半导体衬底的表面一般采用喷砂处理,喷砂处理可去除半导体衬底表面的毛刺和油污等。很多时候只需要对半导体衬底表面的一部分进行喷砂处理,其余部分须保护起来不能被喷到,这就需要使用到喷砂治具。现有的喷砂治具的喷砂区域是固定的,如果半导体衬底上的待喷砂表面与喷砂治具上的喷砂区域不相适应,就必须更换新的喷砂治具,增加了工人的劳动强度,并且工厂还必须购买多种规格的喷砂治具,增加了成本。
实用新型内容
针对现有技术中的缺陷,本实用新型的目的是提供一种喷砂区域可调节的喷砂治具,使其喷砂区域可以调节,降低工人的劳动强度,并且减少工厂的成本。
为了实现上述目的,本实用新型通过如下的技术方案来实现:一种喷砂区域可调节的喷砂治具,包括治具盖和治具座,所述治具座上形成有用于容纳半导体衬底的放置槽,还包括多个喷砂板,所述治具盖的一侧与所述治具座的一侧铰接、另一侧与所述治具座的另一侧可拆卸连接,所述治具盖的内部具有容置腔,所述容置腔在所述治具盖的所述另一侧形成敞口,所述治具盖上开设有贯穿的第一开口,每个所述喷砂板的大小均与所述容置腔的大小相适应,所述喷砂板上贯穿开设有构成喷砂区域的第二开口,所述喷砂板可从所述敞口处放入所述容置腔内、并通过第一连接结构固定。
进一步地,所述连接结构为:所述治具盖的两端的上表面上均设置有螺钉,所述喷砂板的两端均开有与所述螺钉的相配合的第一螺纹孔,所述治具座的两端均开有与所述螺钉的螺纹端相配合的第二螺纹孔,所述螺钉可穿过所述第一螺纹孔后与所述第二螺纹孔配合。
进一步地,所述喷砂板的底部具有两个向下凸出的限位部,所述限位部用于限制所述半导体衬底的两端的移动。
进一步地,还包括两个设置在所述放置槽内的限位机构,两个所述限位机构分别设置在所述治具座的两侧,所述限位机构包括转动杆和限位板,所述转动杆沿横向穿过所述治具座的一侧,所述转动杆的一端伸入所述放置槽内、另一端向外伸出,所述转动杆与所述治具座转动连接,所述转动杆的所述一端具有外螺纹,所述转动杆的所述另一端具有手柄,所述限位板设置在所述转动杆的所述一端、且位于两个所述限位部之间,所述限位板的一侧具有套筒,所述套筒的内壁上具有与所述转动杆的外螺纹相适应的内螺纹。
进一步地,所述限位板与所述套筒螺栓连接。
本实用新型的有益效果:本实用新型提供的一种喷砂区域可调节的喷砂治具,在多个喷砂板上分别开有多个不同规格的第二开口,第二开口构成喷砂区域。工人可以根据半导体衬底的待喷砂表面的不同,选择更换不同的喷砂板,以实现喷砂板上的喷砂区域与半导体衬底的待喷砂表面相适应,从而实现喷砂区域的可调。因此,工人不需要因为喷砂治具上的喷砂区域与半导体衬底上的待喷砂表面不相适应,而更换新的喷砂治具,减少了工人的劳动强度,工厂也不需要购买多种规格的喷砂治具,减少了成本。
附图说明
图1为本实用新型的结构示意图;
图2为喷砂板的结构示意图;
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