[实用新型]一种法拉第屏蔽反应腔室

权利要求书

1.一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：包括腔体顶盖、顶盖密封圈、石英管、电感支撑体、腔体密封圈、放电线圈、腔体密封盖、离子聚焦圈，还包括气体分散盘和线圈支架；所述电感支撑体套在所述石英管外，所述石英管上端通过所述顶盖密封圈与所述腔体顶盖密封固定连接，所述气体分散盘安装在所述腔体顶盖轴心下方，所述石英管下端通过腔体密封圈与所述腔体密封盖密封固定连接，所述离子聚焦圈安装在所述腔体密封盖下方，所述电感支撑体一周安装有所述线圈支架，所述线圈支架外缠绕有所述放电线圈。

2.根据权利要求1所述的一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：所述腔体顶盖内有一径向的工作气体通道，所述工作气体通道在所述腔体顶盖的轴心处转折继续通向反应腔室内。

3.根据权利要求1所述的一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：所述气体分散盘底部为一实体圆盘，轴心处有一中空的圆柱通道，所述圆柱通道侧壁有4个圆形通孔，所述气体分散盘沿圆周有一圈圆周侧壁，所述圆周侧壁底部有一圈细小圆形通孔，所述气体分散盘卡接在所述腔体顶盖上。

4.根据权利要求1所述的一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：所述腔体顶盖、电感支撑体和腔体密封盖均为不锈钢材料，所述腔体密封盖接地。

5.根据权利要求1所述的一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：所述电感支撑体一周有圈轴向均布的线圈支架安装槽。

6.根据权利要求1所述的一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：所述线圈支架外侧有U型线圈安装槽。

7.根据权利要求1所述的一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：所述线圈支架材料为特氟龙。

8.根据权利要求5所述的一种法拉第屏蔽反应腔室，其特征在于：所述线圈支架安装槽为8个，对应所述线圈支架为8个。

9.一种法拉第屏蔽反应腔室装置，其特征在于：该装置由两个权利要求1-8中任一所述的法拉第屏蔽反应腔室镜像对称安装在同一个具有两个通孔的所述腔体密封盖上。