[实用新型]太阳能电池镀膜设备有效
| 申请号: | 202020088602.8 | 申请日: | 2020-01-14 |
| 公开(公告)号: | CN211921691U | 公开(公告)日: | 2020-11-13 |
| 发明(设计)人: | 焦哲 | 申请(专利权)人: | 合肥隆基乐叶光伏科技有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/50 | 分类号: | C23C16/50;C23C16/458;H01L21/673;H01L31/18 |
| 代理公司: | 北京工信联合知识产权代理有限公司 11266 | 代理人: | 白晓晰 |
| 地址: | 230088 安徽省合肥*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 太阳能电池 镀膜 设备 | ||
本实用新型涉及一种太阳能电池镀膜设备,包括炉管、位于所述炉管内的石墨舟、以及桨体;所述石墨舟由多个石墨片电极组成,所述石墨片电极具有硅片放置区域;所述石墨舟还包括用于避免硅片从所述石墨片电极上的硅片放置区域脱出的辅助装置;所述桨体的一端与所述石墨舟可拆卸连接;所述桨体的另一端支承所述炉管的炉壁上,以使所述桨体相对所述炉管转动,带动所述石墨舟翻转;所述桨体具有对硅片的一面进行镀膜的第一镀膜位置、以及对硅片的另一面进行镀膜的第二镀膜位置;当所述桨体位于所述第一镀膜位置时,所述石墨舟正向放置;当所述桨体位于所述第二镀膜位置时,所述石墨舟位反向放置。本实用新型有利于提高单位设备的产出,节约成本。
技术领域
本实用新型涉及太阳能电池的技术领域,尤其是指一种太阳能电池镀膜设备。
背景技术
从目前能源结构上来看,晶体硅太阳能电池占太阳能电池全球市场总额的80%以上,全球年新增装机容量约50GW且增速明显,而晶体硅太阳能电池作为一种清洁能源在改变能源结构、缓解环境压力等方面的重要作用日益凸显。
PERC电池(Passivated Emitterand Rear Contact钝化发射极及背局域接触电池)以其较高的效率和较高的度电成本在能源市场占有率也在逐年攀升,背钝化、PECVD(Plasma Enhanced Chemical Vapor Deposition是指等离子体增强化学的气相沉积法)作为晶体硅太阳电池比较普遍采用的一种镀膜方式,在晶体硅太阳电池生产线上有着举足轻重的地位。晶体硅太阳能电池要想继续保持竞争力、获得更大的普及与应用,必须进一步提高产品效率,提高产品品质。目前常见的管式镀膜的结构一般采用正面、背面分开多次镀膜的方式。上述方式存在以下问题:首先,分开多次镀膜带来的单位设备存在产能不足的问题,而且投入人力和能耗等成本较大;其次,分开多次镀膜由于管式PECVD的石墨舟与硅片接触是靠机械插片,那么部分会由于摩擦污染等问题引起PN结破坏或钝化效果变差最终引起电池片效率低下,以及EL不良;再者,由于当前使用的是竖直结构,那么在镀膜的时候不可避免的发生非镀膜面的绕镀,从而产生外观、EL不良和效率低下等问题。
实用新型内容
为此,本实用新型所要解决的技术问题在于克服现有技术中单位设备的产出低,成本高的问题,从而提供一种有效提高产出,且节约时间和人力成本的太阳能电池镀膜设备。
为解决上述技术问题,本实用新型的一种太阳能电池镀膜设备,包括炉管、位于所述炉管内的石墨舟、以及桨体;所述石墨舟由多个石墨片电极组成,所述石墨片电极具有硅片放置区域;所述石墨舟还包括用于避免硅片从所述石墨片电极上的硅片放置区域脱出的辅助装置;所述桨体的一端与所述石墨舟可拆卸连接;所述桨体的另一端支承所述炉管的炉壁上,以使所述桨体相对所述炉管转动,带动所述石墨舟翻转;所述桨体具有对硅片的一面进行镀膜的第一镀膜位置、以及对硅片的另一面进行镀膜的第二镀膜位置;当所述桨体位于所述第一镀膜位置时,所述石墨舟正向放置;当所述桨体位于所述第二镀膜位置时,所述石墨舟位反向放置。
在本实用新型的一个实施例中,所述辅助装置包括设置所述石墨片电极上的固定杆和固定环,所述固定杆穿过所述固定环,且所述固定杆与所述固定环是绝缘体;所述固定杆和所述固定环位于所述硅片放置区域外。
在本实用新型的一个实施例中,所述辅助装置还包括挡块,所述挡块设置在所述石墨片电极的边缘。
在本实用新型的一个实施例中,所述挡块是石墨销钉。
在本实用新型的一个实施例中,在所述第一镀膜位置以及所述第二镀膜位置时,所述石墨舟水平的置放在所述桨体上。
在本实用新型的一个实施例中,所述石墨舟的底端设有舟脚,所述桨体上设有桨定位块,所述舟脚勾在所述桨定位块上。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





