[实用新型]一种水冷真空平板硫化机

权利要求书

1.一种水冷真空平板硫化机，包括硫化机主体(1)，其特征在于：所述硫化机主体(1)的底部固定安装有底板(2)，所述底板(2)的内部开设有数量为四个的活动腔(3)，四个所述活动腔(3)的内部均活动安装有数量为四个的滑块(4)，四个所述滑块(4)的顶部均固定安装有延伸至底板(2)顶部外侧的连接杆(5)，四个所述连接杆(5)的顶部均固定安装有支撑杆(6)，四个所述支撑杆(6)的顶部均固定安装有支撑滑块(7)，四个所述支撑滑块(7)的顶部且位于硫化机主体(1)的外侧均活动连接有导流管(8)，四个所述导流管(8)的底部且位于支撑杆(6)的左侧均固定安装有连接块(9)，四个所述连接块(9)的内部固定安装有转轴套(10)，四个所述转轴套(10)的内部均固定安装有延伸至硫化机主体(1)内部的滚轴(11)，四个所述导流管(8)的内部均开设有导流槽(12)，四个所述导流槽(12)的左侧均开设有排水口(13)，所述硫化机主体(1)的外侧且位于导流管(8)的后侧开设有数量为四个的凹形槽(14)，所述凹形槽(14)的内侧顶部且位于导流槽(12)的上方固定安装有滴水条(15)。

2.根据权利要求1所述的一种水冷真空平板硫化机，其特征在于：四个所述凹形槽(14)为导流管(8)升降槽，凹形槽(14)的深度小于导流管(8)的厚度。

3.根据权利要求1所述的一种水冷真空平板硫化机，其特征在于：四个所述导流管(8)的底部均开设有与支撑滑块(7)相适配的活动槽，四个活动槽的长度与活动腔(3)的长度相适配。

4.根据权利要求1所述的一种水冷真空平板硫化机，其特征在于：四个所述活动腔(3)的顶部均开设有与连接杆(5)相适配的滑动槽，四个活动腔(3)与滑块(4)相适配。

5.根据权利要求1所述的一种水冷真空平板硫化机，其特征在于：四个所述导流管(8)的呈顶部缺失状，四个所述导流管(8)的长度均大于硫化机主体(1)的外侧长度。

6.根据权利要求1所述的一种水冷真空平板硫化机，其特征在于：四个所述转轴套(10)均与滚轴(11)相适配，所述硫化机主体(1)的外侧均开设有数量为四个且与滚轴(11)相适配的安装槽。