[实用新型]一种淋釉器的工件台

说明书

本实用新型涉及一种淋釉器的工件台，包括基台，基台上设置有供工件移动的导向件，导向件两侧设置有位于基台边缘的集液沟，以及还包括位于基台下方的集液箱，且基台上还设置有连通集液沟和积液箱的若干排液通道。本实用新型中，将上述提供的工件台安装在两个输送带之间，通过两侧的输送带实现工件的送入和送出，且将工件台置于淋釉器正下方，淋釉进行时产生的多余釉料被工件台两侧的集液沟收集，然后进入下方的集液箱中，不会流到输送带上，也不会流到车间内。

技术领域

本实用新型涉及陶瓷用具施釉装置辅助设备技术领域，尤其涉及一种淋釉器的工件台。

背景技术

陶瓷工件在进行施釉作业时，需要使用输送带将工件送至淋釉器工作范围内(即淋釉器下方)，完成淋釉后再将其输送出去。

在进行工件淋釉过程中，多余的釉料会滴落在输送带上，导致输送带污染，对后续工件造成影响。

因此，需要对现有技术进行改进以克服上述存在的问题。

实用新型内容

本实用新型的目的是为了克服现有技术的不足，提供了一种淋釉器的工件台，在两个输送带之间设置位于淋釉器正下方的工件台，解决了现有技术中多余的釉料会滴落在输送带上，导致输送带污染的问题。

本实用新型是通过以下技术方案实现：

一种淋釉器的工件台，包括基台，基台上设置有供工件移动的导向件，导向件两侧设置有位于基台边缘的集液沟，以及还包括位于基台下方的集液箱，且基台上还设置有连通集液沟和积液箱的若干排液通道。

将上述提供的工件台安装在两个输送带之间，通过两侧的输送带实现工件的送入和送出，且将工件台置于淋釉器正下方，淋釉进行时产生的多余釉料被工件台两侧的集液沟收集，然后进入下方的集液箱中，不会流到输送带上，也不会流到车间内。

与现有的技术相比，本实用新型有以下有益之处：

有效地避免了淋釉时产生的多余釉料流到输送带上造成污染的问题，同时还能对多余釉料进行回收再利用，降低企业生产成本。

附图说明

图1为本实用新型的实施例的整体结构示意图。

图2为本实用新型的实施例的图1中A处放大结构示意图。

图3为本实用新型的实施例的图2中B处放大结构示意图。

图4为本实用新型的实施例的安装位置关系示意图。

图中：工件台1、基台2、集液沟3、集液箱4、排液通道5、工件6、导液块7、导向块8、斜块9、凹腔10、导液通道11、安装座12、伸缩杆13、安装条14、滚轮15、输送带16。

具体实施方式

为了使本实用新型的目的、技术方案及优点更加清楚明白，以下结合附图及实施例，对本实用新型进行进一步详细说明。应当理解，此处所描述的具体实施例仅仅用以解释本实用新型，并不用于限定本实用新型。

请参阅图1至图4，一种淋釉器的工件台，包括基台2，基台2上设置有供工件6移动的导向件，导向件两侧设置有位于基台2边缘的集液沟3，以及还包括位于基台2下方的集液箱4，且基台2上还设置有连通集液沟3和积液箱的若干排液通道5。

上述实施例中，将上述提供的工件台1安装在两个输送带16之间，通过两侧的输送带16实现工件6的送入和送出，且将工件台1置于淋釉器正下方，淋釉进行时产生的多余釉料被工件台1两侧的集液沟3收集，然后进入下方的集液箱4中，不会流到输送带16上，也不会流到车间内。