[实用新型]恒温装置以及MOCVD设备有效
| 申请号: | 202020018323.4 | 申请日: | 2020-01-06 |
| 公开(公告)号: | CN211170886U | 公开(公告)日: | 2020-08-04 |
| 发明(设计)人: | 杨彬斌;蔡武;黄小辉;陈向东;杨东;康建 | 申请(专利权)人: | 圆融光电科技股份有限公司 |
| 主分类号: | C23C16/46 | 分类号: | C23C16/46;C23C16/52 |
| 代理公司: | 北京同立钧成知识产权代理有限公司 11205 | 代理人: | 张子青;刘芳 |
| 地址: | 243000 安徽省马*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 恒温 装置 以及 mocvd 设备 | ||
本实用新型提供一种恒温装置以及MOCVD设备,其中,一种恒温装置包括至少两个槽体,至少一个所述槽体内设置有恒温组件,所述恒温组件用于保持所述槽体内的液体的温度恒定,两个所述槽体之间连通有两个导流管,两个所述导流管分别与两个水泵连接,两个所述水泵用于驱动两个所述导流管内的液体向相反方向流动,以使得两个所述槽体内的液体循环流动。本实用新型提供一种恒温装置以及MOCVD设备,耗能低,有利于降低恒温装置的成本,提高生产利润。
技术领域
本实用新型涉及恒温技术领域,尤其涉及一种恒温装置以及MOCVD设备。
背景技术
恒温水浴槽是一种承载液态水,并通过内部自带的控温系统来控制水温并达到长期恒定的设备。恒温水浴槽要求对槽内液体的温度精确控温(控温精度是0.1℃甚至是0.01℃),其最常用的是用电阻丝加热、压缩机制冷的方法,辅以PID(比例、积分、微分)微机自整定精确温度控制方式,将恒温水浴槽内的液态水的温度稳定在所需要的设定温度上。
在LED行业中,所用的MOCVD(Metal-organic Chemical Vapor Deposition,金属有机化合物化学气相沉淀)设备中,需要使用一种有机金属化合物作为原材料,该原材料简称MO源(metalorganic source)。MO源常存储在钢瓶中,以MO源钢瓶的形式被使用。而MO源钢瓶使用时常放置在恒温水浴槽中,用来稳定MO源钢瓶温度,以此达到生产的稳定性及连续性。现有技术中,每台MOCVD设备配备多台恒温水浴槽,以稳定多个MO源钢瓶的温度。
但是,每台恒温水浴槽的工作功率大,多个同时工作的恒温水浴槽耗能高,导致MOCVD设备的使用成本高。
实用新型内容
本实用新型实施例提供一种恒温装置以及MOCVD设备,用以解决多个恒温槽同时工作耗能高,而导致MOCVD设备的使用成本高的问题。
为实现上述目的,本实用新型提供了如下技术方案:
本实用新型实施例的一个方面提供一种恒温装置,包括至少两个槽体,至少一个所述槽体内设置有恒温组件,所述恒温组件用于保持所述槽体内的液体的温度恒定,两个所述槽体之间连通有两个导流管,两个所述导流管分别与两个水泵连接,两个所述水泵用于驱动两个所述导流管内的液体向相反方向流动,以使得两个所述槽体内的液体循环流动。
在其中一种可能的实现方式中,每个所述槽体上至少连接有两个所述导流管,两个所述导流管分别为进液管和出液管,所述出液管和所述进液管分别位于同一个所述槽体的两侧。
在其中一种可能的实现方式中,所述进液管和所述槽体的连通位置与所述出液管和所述槽体的连通位置在竖直方向上具有间距。
在其中一种可能的实现方式中,所述出液管位于所述槽体的下部。
在其中一种可能的实现方式中,所述槽体内设有温度报警器,所述温度报警器至少部分固定在所述槽体内的液位下方,用于在液体温度超出预设温度范围时发出报警提示。
在其中一种可能的实现方式中,还包括总控制器,每个所述槽体内皆设有所述恒温组件,所述总控制器和每个所述槽体内的所述恒温组件分别连接,所述总控制器用于在其中一个所述槽体内的所述温度报警器报警时,控制关闭当前开启的所述恒温组件并开启当前关闭的所述恒温组件。
在其中一种可能的实现方式中,所述槽体的数量为多个,多个所述槽体相互连通,至少一个未设置所述恒温组件的所述槽体与具有所述恒温组件的所述槽体连通。
在其中一种可能的实现方式中,还包括连通管,所述连通管的两端分别与两个所述槽体连通,且所述连通管的两端在竖直方向的高度平齐。
在其中一种可能的实现方式中,所述槽体上设有液位报警器,所述液位报警器至少部分固定在所述槽体内的液位下方,用于在液位高度超出预设液位范围时发出报警提示。
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C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C16-00 通过气态化合物分解且表面材料的反应产物不留存于镀层中的化学镀覆,例如化学气相沉积
C23C16-01 .在临时基体上,例如在随后通过浸蚀除去的基体上
C23C16-02 .待镀材料的预处理
C23C16-04 .局部表面上的镀覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金属材料的沉积为特征的
C23C16-22 .以沉积金属材料以外之无机材料为特征的





