[实用新型]一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置

说明书

本实用新型提供一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置，包括：底板；支架；多个支柱，将支架固定于底板的上方；液体容器，安置于支架上，包括：容器主体；容器顶板；固定件，用于以高度可调的方式将容器顶板固定在容器主体上；和任选地，液位计，设置在容器主体的外侧，其中容器主体和容器顶板之间容纳液体。

技术领域

本实用新型属于辐照加工领域，特别涉及一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置。

背景技术

辐射加工是通过利用射线照射物质而产生物理效应、化学效应和生物效应，对物质或材料进行加工处理的一种加工过程，是一种安全、高效、节能、绿色加工的新技术。目前辐射加工中主要利用由放射性同位素例如⁶⁰Co或¹³⁷Cs放射出的γ射线和由加速器产生的高能电子束或韧致辐射即X射线。

在采用高能电子束进行辐照加工时，一般将待辐照物放置于束下装置的托盘中，运行束下装置使得待辐照物依次经过加速器的束流引出窗下方从而进行辐照。待辐照物受到的辐照剂量与电子束流能量、束流强度、束流扫描宽度、束下装置的运行速度等参数密切相关。对于目前广泛应用的10MeV高能电子辐照加速器，当束流强度为1.5mA，束下装置的运行速度为1m/min时，待辐照物每次从束下通过时所接受的剂量为18kGy。

对于辐射加工中的辐射育种、材料改性等应用，需要1kGy以下的辐照剂量，仅通过调整10MeV高能电子辐照加速器的电子束流能量、束流强度、束流扫描宽度、束下装置的运行速度等设备参数很难达到上述需求。并且，单一地降低束流强度或者提高束下装置的运行速度，将影响作为辐照加工中的重要参数的束流扫描不均匀度，使得辐照加工结果不理想。《GB/T 25306-2010辐射加工用电子加速器工程通用规范》中规定，束流扫描不均匀度应当≤10％。此外，降低电子束能量的操作过程复杂，需要专业人员进行。

现有带电粒子束降能装置一般采用石墨、铍材料或碳化硼等固体材料作为降能材质，降能结构为楔形块结构，应用领域主要集中在质子或重离子治疗方面。但若将这些降能屏蔽方式应用于电子束辐射加工领域的带电粒子束降能装置，尚不能从价格成本、散热设计以及可操作性等方面均满足现场应用的需求。

实用新型内容

本实用新型的主要目的在于提供一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置，在不改变高能电子辐照加速器(例如10MeV电子辐照加速器)的正常运行参数的前提下，有效降低待辐照物经过加速器的束流引出窗后接受的辐照剂量，从而满足辐照加工所需的低剂量需求。

本实用新型利用液体如水作为降能屏蔽材料，优点在于其经济适用、更换方便，而且液位易于控制、调节范围大、调节精度高，尤其有利于降能屏蔽装置的快速散热，且采用的是辐照稳定材料，经电子束辐照后不产生二次放射性废物。

本实用新型提供一种用于控制电子束辐照剂量的屏蔽装置，包括：

底板；

支架；

多个支柱，通过多个支柱将支架固定于底板的上方；

液体容器，安置于支架上，包括：

容器主体；

容器顶板；

固定件，用于以高度可调的方式将容器顶板固定在容器主体上；

和

任选地，液位计，设置在容器主体的外侧，

其中容器主体和容器顶板之间容纳液体。

在一些实施方案中，容器主体和容器顶板之间容纳的液体是水。

在一些实施方案中，支架和/或多个支柱包括阻挡部，所述阻挡部在水平方向上固定液体容器。