[发明专利]一种自再生功能的抗菌复合涂层及其制备方法在审

专利信息
申请号: 202011636308.7 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN114016002A 公开(公告)日: 2022-02-08
发明(设计)人: 苏翠翠 申请(专利权)人: 宁波摩华科技有限公司
主分类号: C23C16/448 分类号: C23C16/448;C23C16/455;C08F212/14;C08F222/14;C08F122/04;A61L29/08;A61L29/14;A61L29/16
代理公司: 杭州高盟专利代理事务所(普通合伙) 33402 代理人: 单燕君
地址: 315200 浙江省宁*** 国省代码: 浙江;33
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摘要:
搜索关键词: 一种 再生 功能 抗菌 复合 涂层 及其 制备 方法
【权利要求书】:

1.一种具有自再生功能的抗菌复合涂层,该抗菌复合涂层附着于基材上,其特征在于:该抗菌复合涂层由若干层抗菌层和若干层可降解层交替复合而成;其中,抗菌层的厚度为0.2-2 µm,可降解层的厚度为0.1-1 µm。

2.根据权利要求1所述的一种具有自再生功能的抗菌复合涂层,其特征在于:所述抗菌层为带正电的聚合物,可降解层为在生理环境下能够发生水解反应的聚合物。

3.根据权利要求1所述的一种具有自再生功能的抗菌复合涂层,其特征在于:所述抗菌复合涂层采用引发式化学气相沉积法制备而成。

4.根据权利要求1所述的一种具有自再生功能的抗菌复合涂层,其特征在于:所述抗菌层为带季铵盐阳离子基团单体的聚合物,或

带季铵盐阳离子基团单体与带两个及以上乙烯性双键的烯烃类单体的共聚物。

5.根据权利要求1所述的一种具有自再生功能的抗菌复合涂层,其特征在于:所述可降解层为:含有乙烯性双键和酸酐类基团单体的聚合物、

含有乙烯性双键和酸酐类基团单体与带两个及以上乙烯性双键烯烃类单体的共聚物、

含有乙烯性双键和酸酐类基团单体与带乙烯性双键烯烃类水溶性单体的共聚物中的一种或多种。

6.一种上述任一项权利要求所述的一种具有自再生功能的抗菌复合涂层的制备方法,其特征在于:具体包括以下步骤:

步骤1:将待承载抗菌复合涂层的基材置于带有合金加热丝的真空反应腔内,保持基材的温度为30-50℃;

步骤2:在基材上交替采用引发式化学气相沉积法制备抗菌层和可降解层的抗菌复合涂层;其中:

抗菌层的制备过程具体为:保持反应腔内真空度为100 mTorr~1000 mTorr,温度为180~300℃,将单体A、单体B和引发剂分别汽化后通入反应腔,其中,单体A和单体B的流量为0.1 sccm~10 sccm,引发剂的流量为0.5 sccm~10 sccm;反应10-60 min,使抗菌层的厚度为0.1-1 μm;

可降解层的制备采用下述方式之一进行:

方式一:保持反应腔内真空度为100 mTorr~1000 mTorr,温度为180~300℃,然后将单体C和引发剂分别加热汽化后混合通入反应腔内,单体C和引发剂的流量分别为0.1 sccm~10 sccm和0.5 sccm~10 sccm;反应5~60 min,使可降解层的厚度为0.2-2 μm;

方式二:保持反应腔内真空度为100 mTorr~1000 mTorr,温度为180~300℃,然后将单体B、单体C及引发剂分别加热汽化后混合后通入反应腔内,单体B和单体C的流量均控制在0.1 sccm~10 sccm,引发剂的流量控制在0.5 sccm~10 sccm,反应5~60 min,使可降解层的厚度为0.2-2 μm;

方式三:保持反应腔内真空度为100 mTorr~1000 mTorr,温度为180~300℃,然后将单体C、单体D与引发剂分别加热汽化后混合通入真空反应腔,单体C和单体D的流量范围均为0.1 sccm~10 sccm,引发剂的流量范围为0.5 sccm~10 sccm;反应5~60 min,使可降解层的厚度为0.2-2 μm;

上述中:

单体A为含有季铵盐阳离子的单体;

单体B为含有两个及以上乙烯性双键烯烃类单体;

单体C为含有乙烯性双键和酸酐类基团单体;

单体D为带乙烯性双键烯烃类水溶性单体。

7.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:所述单体A为二甲基氨基甲基苯乙烯、甲基丙烯酸二甲氨基乙酯、甲基丙烯酸二乙氨基乙酯中的一种或多种。

8.根据权利要求6所述的制备方法,其特征在于:单体B为二丙烯酸乙二醇酯、乙二醇二甲基丙烯酸酯、2,4,6-三乙烯基-2,4,6-三甲基环三硅氧烷、2,4,6,8-四甲基-2,4,6,8-四乙烯基环四硅氧烷和二乙烯基苯中的一种或多种。

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