[发明专利]一种半导体湿法清洗溶液中混酸浓度的控制方法在审

专利信息
申请号: 202011634981.7 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112827376A 公开(公告)日: 2021-05-25
发明(设计)人: 张展;邓信甫;徐铭;陈佳炜 申请(专利权)人: 上海至纯洁净系统科技股份有限公司;至微半导体(上海)有限公司
主分类号: B01F3/08 分类号: B01F3/08;B01F15/00;B01F15/02;B01F15/04
代理公司: 上海智力专利商标事务所(普通合伙) 31105 代理人: 杜冰云;周涛
地址: 200241 *** 国省代码: 上海;31
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摘要:
搜索关键词: 一种 半导体 湿法 清洗 溶液 中混酸 浓度 控制 方法
【说明书】:

发明公开了一种导体湿法清洗溶液中混酸浓度的控制方法,该方法通过在湿法清洗设备的进液端安装混酸装置,能够精确控制湿法清洗溶液中的混酸浓度,提高了发应性溶液的配比精度,同时也能大大提高反应性溶液的配比效率,解决了酸液混合过多或不足量造成的湿法工艺执行不稳定的问题,有效提高了湿法工艺的性能和洁净能力。

技术领域

本发明涉及半导体工艺设备技术领域,尤其涉及一种半导体湿法清洗溶液中混酸浓度的控制方法。

背景技术

在半导体制程或半导体工艺中,需要使用到各种不同的反应性液体,如酸液、碱液、有机溶液等等,尤其对于半导体湿法工艺,往往需要使用这些反应性液体的混合溶液。

在配制半导体湿法工艺所需的混合溶液时,目前通常是将输送有不同反应性溶液的管道全部接至湿法清洗设备的清洗槽内,在清洗槽内将这些不同的反应性溶液进行混合。这种方式不仅清洗槽内不同反应性溶液的配比精度很难控制,同时不同反应性溶液混合均匀也需耗费大量时间,而且也会造成清洗槽中管路过多,管路会占用大量的空间。

发明内容

有鉴于此,本发明提供了一种半导体湿法清洗溶液中混酸浓度的控制方法,用以解决上述背景技术中存在的问题。

一种半导体湿法清洗溶液中混酸浓度的控制方法,具体包括以下步骤:

将混酸装置与湿法清洗设备相连,所述混酸装置包括壳体以及分别设置在壳体内部不同腔室内的液路单元和气路单元;

将多种不同种类的反应性溶液同时输送至混酸装置的液路单元进行瞬时混合,同时控制器控制气路单元调整液路单元的管路压力,以调节不同反应性溶液所在管路的流量,从而控制不同反应性溶液之间的配比;

在设定的初始混合时间内,液路单元中混合得到的混合液通过其排液管排掉,初始混合时间结束时,判断混合液的混合比例是否满足设定比例要求,若满足,则液路单元将混合液输送至湿法清洗设备的设备槽内,若不满足,则控制器控制报警器发出报警信号,以提示工作人员配液失败。

优选地,所述液路单元包括混液阀、排液管、出液管和多个进液管,所述排液管和出液管分别连接至混液阀的出液口;

所述多个进液管并联连接至混液阀的进液口,用于将不同反应性溶液输送入混液阀进行瞬时混合;

所述排液管连接至混液阀的一个出液口,用于排放初始混合时间内得到的混合液;

所述出液管连接至混液阀的另一出液口,用于将混合比例达到设定要求的混合液输送至湿法清洗设备的设备槽内。

优选地,所述进液管的管路上沿着液体流动方向依次安装有液路手阀、第一稳压阀、流量计、第二稳压阀和第一开关阀;

所述排液管上安装有第二开关阀,所述出液管上安装有第三开关阀。

优选地,气路单元包括第一调压气管、第二调压气管和第三调压气管,

第一调压气管的管路结构与第三调压气管的管路结构相同,管路上沿着气体流动方向均依次安装有第一气路手阀、第一调压阀、第一空气过滤器和多个电磁比例阀;

第一调压气管上的多个电磁比例阀分别通过气管与各个进液管上的第二稳压阀相连;

第三调压气管上的多个电磁比例阀分别通过气管与各个进液管上的第一稳压阀相连;

第二调压气管的管路上沿着气体流动方向依次安装有第二气路手阀、第二调压阀、第二空气过滤器和多个电磁阀,多个电磁阀分别通过气管与第一开关阀、第二开关阀和第三开关阀相连。

优选地,控制器控制气路单元调整液路单元的管路压力,以调节不同反应性溶液所在管路的流量的具体步骤为:

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