[发明专利]一种偏振不敏感相位调制器及调制方法在审

专利信息
申请号: 202011631674.3 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112596276A 公开(公告)日: 2021-04-02
发明(设计)人: 张宇光;肖希;李淼峰;王磊;陈代高;胡晓 申请(专利权)人: 武汉邮电科学研究院有限公司;武汉光谷信息光电子创新中心有限公司
主分类号: G02F1/00 分类号: G02F1/00;G02F1/01;G02F1/025
代理公司: 武汉智权专利代理事务所(特殊普通合伙) 42225 代理人: 李斯
地址: 430074 湖*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 一种 偏振 敏感 相位 调制器 调制 方法
【权利要求书】:

1.一种偏振不敏感相位调制器,其特征在于,其包括:

脊型波导(4),其包括平板波导(40)和位于平板波导(40)表面的两个互相平行的调制波导,所述平板波导(40)上设有GSG行波电极结构,每组相邻G电极和S电极之间均设置一个所述调制波导;

偏振分束器(2),用于将输入波导(1)的输入光波分成第一模式偏振光和第二模式偏振光,并将第一模式偏振光输出至一个调制波导;

第一偏振旋转器(3),其用于入射该第二模式偏振光,并输出第一模式偏振光至另一个调制波导;所述S电极用于加载射频信号后,对两个调制波导内的第一模式偏振光产生相同的相移;

第二偏振旋转器(5),其用于入射相移后的一个第一模式偏振光,并输出第二模式偏振光;

偏振合束器(6),其用于将相移后的另一个第一模式偏振光和第二偏振旋转器(5)输出的第二模式偏振光进行合束。

2.如权利要求1所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:两个所述调制波导分别为第一调制波导(44)和第二调制波导(45),所述第一偏振旋转器(3)设置于所述偏振分束器(2)与第二调制波导(45)之间,所述第二偏振旋转器(5)位于所述第一调制波导(44)与偏振合束器(6)之间。

3.如权利要求2所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:两个所述调制波导分别与偏振合束器(6)之间设有热相移器,每个热相移器分别用于补偿一个调制波导上的初始相位。

4.如权利要求1所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:

所述脊型波导上掺杂形成第一P型重掺区(411)、第一P型轻掺区(412)、第一N型轻掺区(413)、N型重掺区(414)、第二N型轻掺区(415)、第二P型轻掺区(416)和第二P型重掺区(417);

所述第一P型轻掺区(412)位于第一P型重掺区(411)和第一N型轻掺区(413)之间,且与第一N型轻掺区(413)相接触形成第一PN结;

所述第二P型轻掺区(416)位于第二N型轻掺区(415)和第二P型重掺区(417)之间,且与第二N型轻掺区(415)相接触形成第二PN结;

所述N型重掺区(414)位于第一N型轻掺区(413)和第二N型轻掺区(415)之间,且N型重掺区(414)与S电极形成欧姆接触,两个所述G电极分别与第一P型重掺区(411)和第二P型重掺区(417)形成欧姆接触。

5.如权利要求4所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:所述第一PN结和所述第二PN结分别位于两个调制波导的中间位置。

6.如权利要求5所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:所述GSG行波电极结构包括相互平行间隔设置的第一金属电极(421)、第二金属电极(422)和第三金属电极(423),所述第二金属电极(422)为位于中间的S电极。

7.如权利要求1所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:所述平板波导(40)远离GSG行波电极结构的一侧设有衬底层,所述衬底层包括靠近平板波导(40)的二氧化硅衬底(431)和远离平板波导(40)的硅衬底(432)。

8.如权利要求7所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:所述平板波导(40)远离衬底层的一侧设有二氧化硅覆盖层(433),所述GSG行波电极结构伸出所述二氧化硅覆盖层(433)。

9.如权利要求1所述的偏振不敏感相位调制器,其特征在于:

所述第一模式偏振光为TE偏振光,所述第二模式偏振光为TM偏振光。

10.一种基于权利要求1所述的偏振不敏感相位调制器的调制方法,其特征在于,其包括步骤:

偏振分束器(2)将输入光波分成第一模式偏振光和第二模式偏振光,并将第一模式偏振光输出至一个调制波导;

第一偏振旋转器(3)将偏振分束器(2)入射的第二模式偏振光旋转,输出第一模式偏振光至另一个调制波导;

平板波导(40)上的GSG行波电极结构的S电极加载射频信号后,对两个调制波导内的第一模式偏振光产生相同的相移;

第二偏振旋转器(5)将相移后的一个第一模式偏振光旋转,并输出第二模式偏振光;

偏振合束器(6)将相移后的另一个第一模式偏振光和第二偏振旋转器(5)输出的第二模式偏振光进行合束。

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