[发明专利]一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法有效

专利信息
申请号: 202011627363.X 申请日: 2020-12-31
公开(公告)号: CN112796794B 公开(公告)日: 2023-07-04
发明(设计)人: 李松;侯宇璐;雷铭;张睿;李锁辉;张艳鹏;王道乐三;武波;陈俐光;李桐;刘国怀 申请(专利权)人: 中国建筑一局(集团)有限公司;中建市政工程有限公司
主分类号: E21D11/15 分类号: E21D11/15
代理公司: 北京智桥联合知识产权代理事务所(普通合伙) 11560 代理人: 张卫武
地址: 100071 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 隧道 初次 衬砌 阶段 快速 施工 局部 地下 二层井 方法
【权利要求书】:

1.一种暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法,其特征在于,包括以下步骤:

第一步:采取分段开挖暗挖隧道二层井结构;先开挖二层井结构的首层,施工首层格栅;

第二步:制作首层底板结构,并在首层底板结构与首层格栅连接的边角处采用“T型格栅”预留接头;“T型格栅”预留接头有两个,每个分别位于所述边角处;所述首层底板结构的格栅采用玻璃纤维钢筋制作,以便于首层底板结构的破除施工;

第三步:开挖二层井结构的底层结构,及时将底层结构的格栅与所述“T型格栅”预留接头连接,形成封闭结构,保证施工完全;

所述二层井结构的顶部采用钢盖板,所述“T型格栅”预留接头与底层结构的格栅的连接位置设置有预埋格栅角板。

2.根据权利要求1所述的暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法,其特征在于,所述第三步中,首层施工完毕后,为减少二层井施工过程中对其他工作面作业影响,可灵活选择安排合理时间点进行二层井结构的底层结构施工。

3.根据权利要求2所述的暗挖隧道初次衬砌阶段快速施工局部地下二层井的施工方法,其特征在于,所述格栅可采用不同规格型号,满足不同使用功能要求。

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