[发明专利]一种褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法在审
| 申请号: | 202011625187.6 | 申请日: | 2020-12-30 | 
| 公开(公告)号: | CN112813252A | 公开(公告)日: | 2021-05-18 | 
| 发明(设计)人: | 李文博;韩跃新;李朋超;李艳军 | 申请(专利权)人: | 东北大学 | 
| 主分类号: | C22B1/02 | 分类号: | C22B1/02;C22B1/10;B03C1/015 | 
| 代理公司: | 沈阳东大知识产权代理有限公司 21109 | 代理人: | 宁佳 | 
| 地址: | 110819 辽宁*** | 国省代码: | 辽宁;21 | 
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| 摘要: | |||
| 搜索关键词: | 一种 褐铁矿 型全泥 氰化 分段 调控 强化 脱氰提铁 方法 | ||
1.一种褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法,其特征在于,包括以下步骤:
(1)气固分离:
将褐铁矿型全泥氰化尾渣经给料机输送到一级预热系统,在负压作用下,进行气固分离,获得固体物料和分离气体;
(2)预热:
所述的固体物料先后经过一级预热装置和二级预热装置,分别进行一级预热与二级预热,获得二级预热物料;其中,所述的一级预热温度为100~200℃,预热时间为5~10min;二级预热温度为300~400℃,时间为2~5min;
(3)焙烧:
二级预热物料进入悬浮焙烧破晶系统,焙烧温度为550~750℃,焙烧时间为3~25min,获得悬浮焙烧物料,其中:所述的焙烧气氛为弱氧化气氛,每百公斤给矿气体流量为5~7m3;
(4)气固分离:
悬浮焙烧物料通过输送管道进入气料分离系统,进行气固分离,获得固体物料和分离气体,所述的固体热料温度为500~650℃;
(5)还原:
(5-1)固体热料在重力作用下,进入一级还原焙烧系统,进行一级还原,所述的一级还原温度为450~600℃,时间为5~25min,获得一次焙烧还原产品,其中,所述的一级还原采用的还原剂为清洁能源,还原气体浓度10%~50%,焙烧产品通过输送管道进入二级还原系统;
(5-2)一次焙烧还原产品进入二级还原焙烧系统,进行二级还原焙烧,所述的二级还原焙烧温度为250~350℃,时间为10~20min,获得二次焙烧还原产品,其中,所述的二级还原采用的还原剂为冷煤气;
(6)二次焙烧还原产品冷却后,采用常规陶瓷搅拌磨磨矿,磨矿至细度-400目粒级含量70%~95%后,进行一段粗选,一段精选,一段扫选,获得精矿产品。
2.根据权利要求1所述的褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法,其特征在于,所述的步骤(1)中,褐铁矿型全泥氰化尾渣包括组分及质量百分含量为TFe12-25%,FeO≤0.5%,SiO2 15.10-35.00%,Al2O3 1.5-6.00%,CaO 5.12-10.20%,MgO 2.0-15.0%,P 0.028-0.048%,S 0.49-0.50%,Cu 0.12-0.19%,Pb 0.15-0.8%,Zn 0.45-0.55%,As 0.09-0.13%,烧失18.26-20.05%;Au 0.17-0.34g/t,Ag 14.1-19.6g/t,总CN-450-550mg/L。
3.根据权利要求1所述的褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法,其特征在于,所述的步骤(1)中,褐铁矿型全泥氰化尾渣-0.074mm粒级含量占50~100%。
4.根据权利要求1所述的褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法,其特征在于,所述的步骤(5-1)中,一级还原的还原剂为煤气或天然气。
5.根据权利要求1所述的褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法,其特征在于,所述的步骤(6)中,冷却产品磁选过程中,一段磁选粗选磁场强度为1500~2500Oe,一段精选磁场强度为600~1500Oe,一段扫选磁场强度为1500~2500Oe,其中一段精选尾矿和一段扫选精矿合并作为中矿,返回一段粗选进行选别。
6.根据权利要求1所述的褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法,其特征在于,所述的步骤(6)中,精矿铁品位TFe 61.5-68%,铁回收率75-90%,同时获得危废,所述的危废中CN-为0.02-0.08mg/kg。
7.根据权利要求1所述的褐铁矿型全泥氰化尾渣分段调控强化脱氰提铁的方法,其特征在于,所述的方法中采用的悬浮焙烧破晶系统、一级还原焙烧系统和二级还原焙烧系统中均设有还原反应器,所述的各还原反应器内部均设有挡板和布风板,顶部均设有进料口,侧壁上部均设有出料口,底部均设有进气口,用于通入还原性气体,其中:
所述的布风板将还原反应器分为上部腔体和下部腔体,进气口与下部腔体连通;挡板位于上部腔体内,所述的挡板设置若干块,包括上挡板和下挡板,所述的上挡板和下挡板交替布置,所述的上挡板固定于还原反应器上壁内侧,并与下壁之间设有间隙;所述的下挡板固定于还原反应器下壁内侧,并与上壁之间设有间隙;形成物料通道,以保证进料口和出料口连通。
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